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多弧离子镀用于制备高质量的Ti-N膜

徐新乐

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2000.08.015

研究了多弧离子镀制备Ti-N膜的重要工艺参数(磁场、弧电流、偏压和氮气流量)对膜层质量的影响,详细分析了它们影响膜层特性的原因。实验证明,提高弧电流的同时抑制液滴的产生,是提高膜层质量和生产效率的有效途径。

关键词: 膜层 , 多弧离子镀 , Ti-N膜 , 硬度

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