曾鹏
,
胡社军
,
谢光荣
,
黄拿灿
,
吴起白
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.03.009
采用Ti/W复合靶,用多弧离子镀技术沉积了Ti-W -N多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究.结果表明:在本试验条件下多元膜的结构形式为(Ti, W)2N,最佳多层膜的结构形式为基体/Ti/TiN/(TiyW1-y )N/(Ti,W)2N,并具有较高的显微硬度和极低的孔隙率,在800 ℃具有很好的抗氧化性能.在沉积过程中存在着多元合金膜层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关.
关键词:
多弧离子镀
,
Ti-W-N多元膜
,
多层膜
,
组织与性能
