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Nb+C离子注入磁过滤真空电弧镀TiAlN薄膜研究

刘红亮 陶冶

物理测试

利用MeVVA离子源技术对阴极磁过滤真空弧沉积的TiAlN薄膜进行了不同注入剂量的Nb及Nb+C离子注入。采用EDS、TEM、GIXRD、显微硬度等测试方法研究了离子注入剂量对于薄膜微观结构和性能的影响。结果表明，注入剂量为Nb5×1017 ions/cm2+C5×1017 ions/cm2时，Nb...

关键词: 离子注入 , TiAlN film , amorphous , nano crystalline

THE EFFECTS OF PULSE BIAS VOLTAGE AND N2 PARTIAL PRESSURE ON TiAIN FILMS OF ARC ION PLATING (AIP)

M.S. Li

金属学报(英文版)

Owing to the characteristics of arc ion plating(AIP) technique, the structure and com-position of TiAlN films can be tailored by controlling of various parameters such ascompositions of target materials, N2 partial pressure, substrate bias and so on. ln thisstudy, several titanium aluminum nitride f...

关键词: TiAlN film , null , null , null

THE EFFECTS OF PULSE BIAS VOLTAGE AND N2 PARTIAL PRESSURE ON TiAIN FILMS OF ARC ION PLATING (AIP)

金属学报(英文版)

关键词:

钢表面纳米TiAlN薄膜的结构表征与性能研究

曹慧 , 张发 , 孟超平

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.10.017

目的在GCr15轴承钢和W18Cr4V高速钢基体上制备硬质耐磨的纳米TiAlN薄膜,以此来提高GCrl5和W18Cr4V钢的使用寿命.方法采用直流反应磁控溅射的方法,以氩气为工作气体,氮气为反应气体,采用反复试验并优化后的一组参数,在两种常用的钢基体上制备高质量的耐磨薄膜.通过XRF、XRD、AFM...

关键词: 磁控溅射 , TiAlN薄膜 , 微观结构 , 摩擦磨损 , 纳米 , 显微硬度