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磁控溅射TiAlVN薄膜中V含量对其结构和抗腐蚀性能的影响

宋庆功 , 辛慧

材料保护

向TiAlN薄膜中添加V可改善薄膜性能.采用磁控溅射技术沉积了不同V含量的TiAlVN薄膜,通过能谱仪、台阶仪、X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分析薄膜的成分、厚度、相结构和表面形貌,用动电位极化的方法研究薄膜的抗腐蚀性能.结果表明:TiAlVN薄膜属于面心立方(fcc)和六方密排(h...

关键词: 磁控溅射 , TiAlVN薄膜 , TiAlN薄膜 , 抗腐蚀性能