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调制结构对TiN/TaN多层膜的生长行为及力学性能的影响

赵阳 , 王娟 , 徐晓明 , 张庆瑜

金属学报

利用反应磁控溅射方法,设计并制备了调制周期相同而调制比的TiN/TaN多层膜。利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和纳米压痕仪对多层膜的结构、微观状态和力学性能进行乐系统表征。结果表明:调制结构不仅改变多层膜的生长速率,而且能导致多层膜择优生长取向的变化;界面应力的存在使得薄膜生长速率随沉积层厚度的增加而下降;结构分析发现:在TiN/TaN多层膜中存在着独立外延生长的(111)和(100)两种取向的调制结构,这两种调制结构的调制周期存在着一定的差异;在我们的实验条件下,调制周期为6 nm左右的TiN/TaN多层膜,其硬度提高约50%;在调制比为3:1时,硬度最大值为34.2GPa,弹性模量为344.9GPa;此外,我们根据结构和力学性能的分析结果,讨论了TiN/TaN多层膜的超硬机制。

关键词: TiN/TaN多层膜 , growth behavior , structural characterization , mechanical properties

调制结构对TiN/TaN多层膜的生长行为及力学性能的影响

赵阳 , 王娟 , 徐晓明 , 张庆瑜

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2006.04.010

利用反应磁控溅射方法,制备了调制周期相同而调制比不同的TiN/TaN多层膜.利用XRD,HRTEM和纳米压痕仪分别对多层膜的结构、微观状态和力学性能进行了系统研究.结果表明:调制结构不仅改变多层膜的生长速率,而且能导致多层膜择优生长取向的变化;界面应力的存在使得薄膜生长速率随沉积层厚度的增加而下降;在TiN/TaN多层膜中存在着各自独立外延生长的[111]和[100]两种取向的调制结构,且具有不同的调制周期;调制周期为6 nm左右的TiN/TaN多层膜的硬度与弹性模量分别提高约50%与30%;在调制比为3:1时,硬度最大值为34.2 GPa,弹性模量为344.9 GPa;根据结构和力学性能的分析结果,讨论了TiN/TaN多层膜的硬化机制.

关键词: TiN/TaN多层膜 , 生长行为 , 结构特征 , 力学特性

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