梁戈
,
白力静
,
蒋百灵
兵器材料科学与工程
doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2009.04.002
通过SEM和XRD法,研究不同热氧化温度下闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备的TiN镀层形貌、相结构及性能的变化.结果表明:非平衡磁控溅射离子镀TiN镀层在700℃以下性能基本稳定,具有良好的热氧化性能,尽管600℃时生成少量TiO_2相,但600℃之前断口形貌及组织结构保持稳定;700℃时镀层的单位质量氧化增重率迅速增加,氧化曲线出现拐点,镀层失效.
关键词:
TiN镀层
,
热氧化
,
非平衡磁控溅射
