靳晓敏
,
高利珍
,
王鹤峰
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.04.005
目的 提高316 L不锈钢表面的光催化和亲水性能.方法 通过等离子表面合金化技术在316 L不锈钢表面制备结合良好的TiN薄膜,然后对TiN薄膜进行热氧化,得到N掺杂TiO2薄膜.利用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、扫描电子显微镜及紫外-可见分光光度仪对制备的N掺杂TiO2薄膜进行表征,并通过光催...
关键词:
等离子表面合金化
,
不锈钢
,
TiO2薄膜
,
N掺杂
,
光催化
,
亲水性
,
热氧化
郑树凯
稀有金属材料与工程
利用溶胶-凝胶技术在载玻片衬底上制各了透明的TiO2薄膜.为了增强TiO2薄膜的光反应活性,对TiO2薄膜分别进行了不同浓度的Fe3+和La3+离子掺杂.离子掺杂的TiO2薄膜在可见光区有良好的透光性,通过降解罗丹明B染料溶液.评估了掺杂Fe3+和La3+离子的TiO2薄膜的光反应活性.结果表明,当...
关键词:
LTiO2薄膜
,
溶胶-凝胶法
,
离子掺杂
,
光反应活性
赵琳
,
何延春
人工晶体学报
采用直流磁控反应溅射法在未加热衬底上沉积TiO2薄膜,以紫外灯为光源进行了薄膜光催化降解亚甲基蓝溶液的实验,研究了沉积工艺参数和后处理退火温度对薄膜光催化性能的影响.结果表明:经过500℃退火、厚度较大的薄膜样品光催化效率较高;膜厚基本相同的样品,沉积时电源功率较小、Ar/O2流量比例较小的薄膜光催...
关键词:
TiO2薄膜
,
磁控溅射
,
光催化
,
制备工艺参数
叶剑
,
曹春斌
功能材料
在硅片和石英上利用射频溅射法沉积了TiO2薄膜,并分别在空气中进行了退火处理。利用椭偏光谱仪对硅片上薄膜进行了椭偏测试,利用紫外-可见分光光度计对石英上薄膜进行了透射光谱测试。利用解谱软件对椭偏谱和透射谱进行了建模解谱,获得了不同基片上薄膜在不同退火温度下的折射指数和消光系数,发现和TiO2块材的光...
关键词:
射频磁控溅射
,
TiO2薄膜
,
椭圆偏振技术
,
光学性能
张利伟
,
张兵临
,
姚宁
,
樊志琴
,
杨仕娥
,
鲁占灵
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.04.042
采用直流反应磁控溅射的方法在镀有ITO的导电玻璃衬底上沉积了二氧化钛薄膜,分别用拉曼光谱和吸收光谱研究了薄膜的结构,通过光电流研究了二氧化钛薄膜的紫外光响应.在100s的时间内光电流能达到最大值的96%,当停止紫外光照射时,光电流在200s的时间内能恢复到暗电流,二氧化钛薄膜对紫外光的灵敏性和稳定的...
关键词:
直流反应磁控溅射
,
二氧化钛薄膜
,
光响应
,
光电流
高倩
,
李喆
,
李铭
,
刘涌
,
宋晨路
,
韩高荣
材料科学与工程学报
采用介质阻挡放电化学气相沉积（DBD-CVD）法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛（TTIP）、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子能谱、场发射扫描电镜、光催化性质、光亲水性质等测试表...
关键词:
TiO2薄膜
,
介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)
,
表面微观结构
,
掺N
,
光催化性
,
亲水性
顾广瑞
,
李英爱
,
陶艳春
,
何志
,
赵永年
无机材料学报
研究了在纳米厚度范围内,TiO2薄膜的导电性与薄膜厚度和基底材料的关系.利用射频磁控溅射方法,使用高纯Ti(99.99％)靶,通入Ar和O2的混合气体,制备了TiO2薄膜,薄膜膜厚15～225nm.在室温下测量了不同厚度TiO
关键词:
TiO2薄膜
,
conductivity
,
resistivity
,
transfer of electrons
代福
,
李宏业
,
李嘉琪
,
陈华亮
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2014.16.010
采用溶胶-凝胶实验方法,研究了TiO2薄膜厚度、退火温度及退火时间对薄膜晶相结构、表面形貌和光催化性能的影响.结果表明,TiO2薄膜光催化活性随着薄膜厚度的增加而增加,当薄膜厚度为3层时,光催化活性达到最大,层数超过3层时,薄膜的光催化活性随薄膜厚度的增加反而降低;当退火温度为550℃时,TiO2薄...
关键词:
TiO2薄膜
,
溶胶-凝胶法
,
旋涂法
,
光催化特性
