许俊华
,
曹峻
,
喻利花
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00724
采用多靶磁控溅射技术,分别利用不同V靶功率和石墨靶功率制备一系列不同V含量和C含量的TiVN和TiVCN 复合膜.利用X射线衍射仪、纳米压痕仪,高温摩擦磨损仪研究了TiVN和TiVCN复合膜的微结构、力学性能及室温和高温摩擦磨损性能.研究表明,当V靶功率为60 W时,TiVN薄膜的硬度达到最大值,为...
关键词:
TiVCN
,
磁控溅射
,
力学性能
,
摩擦磨损性能
,
Magné1i 相