欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

检索条件:关键词=Tl-2212  

  • 论文(4)

Tl系超导薄膜金属涂层的生长与特性研究

季鲁 , 阎少林 , 赵新杰 , 方兰 , 李永刚 , 何明

低温物理学报 doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2007.01.004

我们研究了Tl-2212超导薄膜在带有YSZ/CeO2缓冲层和带有CeO2/YSZ/CeO2缓冲层的Ni金属RABiTS基带上的生长情况.基带上的缓冲层是采用PLD方法制备的,Tl-2212薄膜的制备采用了磁控溅射和后热处理两步方法.XRD 实验结果表明,Tl-2212薄膜都具有很好的C轴垂直于膜面...

关键词: Tl-2212 , RABTiS , 缓冲层 , YSZ , CeO2

在RABiTS基带上制备Tl-2212超导薄膜

季鲁 , 阎少林 , 赵新杰 , 方兰 , 李永刚 , 何明

低温物理学报 doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2005.z1.070

我们研究了Tl-2212超导薄膜在带有YSZ/CeO2缓冲层和带有CeO2/YSZ/CeO2缓冲层的Ni金属RABiTS基带上的生长情况.基带上的缓冲层是采用PLD方法制备的,Tl-2212薄膜的制备采用了磁控溅射和后热处理两步方法.XRD 实验结果表明,Tl-2212薄膜都具有很好的c轴垂直于膜面...

关键词: Tl-2212 , RABTiS , 缓冲层 , YSZ , CeO2

高温超导薄膜生长机理初探

赵新杰 , 季鲁 , 陈恩 , 左涛 , 周铁戈 , 陈思 , 阎少林 , 方兰 , 左旭

低温物理学报 doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2005.z1.047

在3×10×0.5mm3的LaAlO3(001)基片上,利用直流磁控溅射生长一层厚度约为700nm的非晶态Tl2Ba2CaCu2Ox先驱薄膜.将先驱薄膜与热处理过的Tl2Ba2Ca2Cu3Oy块材(作为Tl源)一起在720~860℃温度下退火.为了研究薄膜的初期成核情况,退火时间一般为5分钟.利用X...

关键词: Tl-2212 , 高温超导薄膜 , 生长机理 , 热处理

2英寸Tl-2212超导薄膜的制备及特性

黎松林 , 陈莺飞 , 王瑞兰 , 徐小平 , 田海燕 , 王奉波 , 雍俐培 , 胡芳仁 , 赵新杰 , 林德华 , 郑东宁

低温物理学报 doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2005.z1.061

优化了各项试验参数,运用后退火方法成功制备了2英寸Tl-2212超导薄膜.为避免真空室污染,制备过程中先利用脉冲激光法在LaAlO3基片上沉积出不含Tl的Ba2CaCu2Ox前驱膜,然后在720~740℃下的流动氩气氛中进行铊化后退火处理,制备的薄膜外观均匀光滑.2θ扫描表明,薄膜具有良好的c轴外延...

关键词: 超导薄膜 , 脉冲激光沉积 , Tl-2212