谢东华
,
张鹏程
,
张羽廷
,
王庆富
,
刘婷婷
腐蚀学报（英文）
doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2009.05.007
采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线结构衍射仪(XRD)及拉伸实验等方法,研究了铀(U)上磁控溅射Al镀层在480℃,2小时,60 MPa条件下热等静压(HIP)处理对界面特性以及膜基结合强度的影响.结果表明:经HIP处理后,镀层密度达到了其理论密度;镀层由柱状晶转变为致密的层状结构,在界面处Al、U元素形成了互扩散,并生成了金属间化合物UAl2和UAl3;膜基结合形成了冶金结合,结合强度有所增强.
关键词:
热等静压
,
U/hl镀层
,
界面特性
