赵淑芳
,
喻利花
,
马冰洋
,
许俊华
材料工程
doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2014.12.004
采用多靶反应磁控溅射技术制备一系列不同Ti含量的W-Ti-N复合膜.采用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等检测方法对薄膜的微结构和力学性能进行表征.采用UMT-2功能摩擦试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对W-Ti-N复合膜的摩擦性能进行评价,同时,探讨薄膜的致硬机理和摩擦机制.结果表明:Ti含量(原子分数,下同)为5％～23.48％时,薄膜硬度处于峰值区,硬度值最高可达39GPa,摩擦因数在0.4左右.当Ti含量高于23.48％时,硬度随着Ti含量增加而下降,摩擦因数随Ti含量的增加而升高.
关键词:
磁控溅射
,
W-Ti-N复合膜
,
微结构
,
力学性能
,
摩擦性能
