冯志鹏
,
魏峰
,
赵鸿滨
,
杨志民
稀有金属
doi:10.13373/j.cnki.cjrm.XY15033101
采用射频磁控溅射技术在透明导电氧化铟锡(ITO)玻璃上沉积了不同工作压强和不同氧分压(氧氩比)条件下的WO3薄膜并研究了其电致变色特性.采用X射线衍射分析(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了所制备薄膜的成分结构和表面形貌,采用电化学测试工作站和紫外可见双束分光光度计对薄膜的电致变色循环伏安特性和光调制性能进行了研究.结果表明,射频磁控溅射制备的WO3薄膜的成分结构和电致变色循环伏安特性之间存在着一定的影响关系;相对于氧分压,薄膜沉积过程中的工作压强对WO3薄膜的成分结构和电致变色性能的影响更加明显,随着工作压强的增大,薄膜由晶态逐渐转变为非晶态,薄膜表面微观结构更加粗糙,进而具有更优的循环伏安特性和更宽的光调整范围.
关键词:
WO3薄膜
,
射频磁控溅射
,
电致变色
,
循环伏安
,
工作压强
俞军
,
施寒潇
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.01.014
采用射频反应溅射制备了纳米晶WO3薄膜.基于Berg理论建立了WO3射频反应溅射模型,并分析工艺参数对滞回曲线的影响,基于研究了抽速、基片温度、馈入功率、靶片间距和溅射靶等离子体溅射面积的影响.提出了一种新的消除滞回曲线的制备纳米晶WO3薄膜的方法和优化的工艺参数.论文制备了性能良好的电致变色纳米晶WO3薄膜.分别用环境扫描电镜(ESEM)、X射线光电子能谱(XPS),X射线衍射(XRD)和分光光度计测试了该薄膜,该薄膜在可见光波段,不变色时的透光率大于95%,变色后为65%.纳米晶WO3薄膜的晶粒尺寸在40纳米左右,其高比表面积和缺陷态为电致变色的例子扩散提供了通道.
关键词:
电致变色
,
纳米晶
,
WO3薄膜
王晨
,
陈君君
,
罗朝林
,
李媛
,
吴波
材料热处理学报
研究了不同溶胶-凝胶镀膜技术对电致变色WO3薄膜的影响.采用过氧化聚钨酸法配制溶胶,然后通过脉冲电泳沉积和浸渍提拉两种镀膜技术在ITO导电玻璃基底上分别制备WO3薄膜,对比研究了薄膜的微观形貌、结构、光学和电化学性能.结果表明,两种镀膜技术制备的薄膜均为非晶态且厚度相近,约为252 nm；在可见光范围内,脉冲电泳沉积制备的薄膜的光学调制幅度可达80％,比浸渍提拉制备的薄膜高25％；与浸渍提拉法相比,脉冲电泳沉积制备的薄膜具有更高的电化学活性、更快的响应时间和相对低的循环可逆性.
关键词:
WO3薄膜
,
电致变色
,
溶胶-凝胶
