蒋百灵
,
胡鹏飞
,
李洪涛
材料热处理学报
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层,研究了不同C靶电流CrCN镀层的摩擦系数、碳含量和物相组成,并分析了镀层中碳元素的化学态.结果表明:当C靶电流从.增大到1.5 A时,镀层摩擦系数从0.75降至0.3,随着C靶电流的增大,镀层中碳含量呈非线性增大,增速呈从...
关键词:
磁控溅射
,
CrCN镀层
,
X衍射
,
X射线光电子能谱
,
碳键
周军平
,
吴智远
,
朱新功
材料导报
探讨了3×3隧道结构的a二氧化锰的合成以及掺杂Ti前后的电化学性能,结果表明掺杂后可充性明显改善,X衍射的结果表明经过有限的充放电过程,a二氧化锰的晶体结构基本得以保留.红外光谱的结果显示,掺杂的Ti不是简单的TiO2的形式.
关键词:
a-MnO2
,
充放电分析
,
X衍射
,
红外光谱
李燕
,
陈希明
,
熊英
,
杨保和
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.03.004
采用直流磁控反应溅射法,在3种衬底上获得c轴(002)定向生长的ZnO薄膜,并利用X射线衍射、PL谱对上述薄膜进行了实验研究.结果表明N型(100)Si衬底上,ZnO(002)取向度最高,分析认为是由于N型(100)Si与ZnO(002)晶格匹配度高所致.
关键词:
溅射
,
ZnO
,
X衍射
,
PL谱
,
晶格匹配
