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Y2O3薄膜的制备以及抗划伤性能和摩擦学性能研究

杨生荣 , 王金清 , 刘晓红

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2004.z1.027

采用自组装成膜技术制备Y2O3薄膜.利用XPS、XRD和AFM分析表征了薄膜的组成和结构.结果发现淀积在基片上的Y2O3薄膜比较致密、均匀且牢固性好.摩擦磨损实验表明:利用该方法制备的Y2O3薄膜经600℃烧结处理后适于在低负荷、低滑动速度下作为减摩、抗磨保护性涂层.

关键词: 自组装薄膜 , Y2O3薄膜 , 抗划伤性能 , 摩擦学性能

光学级金刚石自支撑膜及其镀制Y2O3增透膜后的高温抗氧化性

郭会斌 , 吕反修 , 李成明 , 黑立富 , 王耀华

材料热处理学报

为了提高金刚石膜的红外透过率和高温抗氧化性能,采用纯钇(Y)金属靶,使用直流反应磁控溅射法在光学级金刚石自支撑膜表面制备了Y2O3薄膜.对比研究了光学级金刚石自支撑膜和Y2O3/Diamond/Y2O3复合窗口的高温抗氧化性能,及氧化前后样品表面形貌和红外透过率的变化情况.热分析、扫描电子显微镜和傅立叶变换红外光谱仪的研究结果表明Y2O3薄膜对光学级金刚石膜有非常好的抗氧化防护性能,在高达950℃的温度暴露30s后对光学级金刚石膜表面没有造成明显损伤,且仍能保持良好的增透效果(透过率超过80%).

关键词: 化学气相沉积(CVD) , 金刚石自支撑膜 , Y2O3薄膜 , 抗氧化性能

1Cr13合金沉积Y2O3薄膜后的高温氧化行为

马静 , 何业东 , 王俊 , 孙宝德

材料保护

为了研究Y2O3薄膜处理对1Cr13合金的高温氧化行为的影响,采用电沉积-热解法在1Cr13合金表面制备了Y2O3薄膜,并研究了薄膜处理后合金在800℃空气中的氧化动力学曲线,并进行了SEM及XRD分析.经100 h循环氧化后沉积薄膜试样表面生成了晶体状的氧化铬,氧化增重和氧化膜剥落量显著下降,分别为空白试样的0.39和0.11.沉积薄膜的作用在于在氧化初期为氧化膜提供了优先形核的位置,改变了氧化铬中的传输机制和应力状态,促进了合金的选择氧化,生成了保护性的氧化膜.因此,Y2O3薄膜处理能显著提高1Cr13合金的抗高温氧化性能.

关键词: Y2O3薄膜 , 高温氧化 , 1Cr13合金 , 选择氧化

电沉积-热解Y2O3薄膜提高Fe3Al高温氧化膜的保护性

王永刚 , 何业东 , 朱日彰

中国稀土学报

通过电沉积-热解方法在Fe3Al表面制得Y2O3薄膜.对有、无薄膜Fe3Al试样在900°C空气中非等周期循环氧化,发现表面施加Y2O3薄膜能够显著改善氧化膜的塑性和粘附性,提高Fe3Al的抗高温氧化性能.

关键词: 稀土 , Y2O3薄膜 , 电沉积 , 热分解 , Fe3Al , 高温氧化

退火处理对Y2O3薄膜结构和光学性能的影响

闫锋 , 刘正堂 , 刘文婷 , 刘其军

材料导报

采用射频磁控溅射法以Y2O3陶瓷为靶材在单晶si(Ⅲ)和石英表面制备了Y2O3薄膜.利用X射线衍射(XRD)仪、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见(UV-VIS)光谱仪和傅立叶变换红外(FTIR)光谱仪对真空退火前后Y2O3薄膜的结构和光学性质进行了分析研究.结构研究表明,在200℃条件下制备的Y2O3薄膜为非晶态,经600℃退火后出现单斜相,经800℃退火后薄膜完全转化为立方多晶,同时得到了不同晶面的晶粒尺寸;沉积态的Y2O3薄膜由球状颗粒排列组成,经800℃真空退火后薄膜为柱状晶.光学性质研究发现,真空退火后Y2O3薄膜的红外透过率显著下降;使用Tauc作图法得到不同结晶条件下的光学带隙,发现薄膜的光学带隙与结晶条件有关,并且退火后薄膜的光学带隙明显减小.

关键词: Y2O3薄膜 , 晶体结构 , 退火处理 , 透过率 , 光学带隙

退火对Y2O3薄膜结构和电学性能的影响

霍会宾 , 刘正堂 , 阎锋

材料导报

采用射频磁控反应溅射法,成功地在n-Si衬底上制备了高k栅介质Y2O3薄膜.对薄膜在不同温度退火后的结构、成分和电学性能进行了分析研究.结果表明,沉积态薄膜为非晶态,退火后薄膜开始晶化;沉积态薄膜中Y和O元素的原子浓度比基本符合化学计量比;薄膜具有较低的漏电流,退火后薄膜的漏电流降低.高频C-V曲线表明,退火后由于界面层的生长导致积聚电容减小.

关键词: Y2O3薄膜 , 退火 , 漏电流 , 界面层

化学溶液沉积法制备Y2O3过渡层

岳建设 , 李祯 , 王晓芳

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.10.018

为了满足YBa2Cu3O7(YBCO)超导带材生产实际的需要,在金属基带和YBCO超导薄膜之间制备一层合适的氧化物过渡层显得尤为重要.以乙酸钇为原料配制前驱体溶液,采用金属盐化学溶液沉积法在织构的Ni-5%W(质量分数)(Ni-5W)带上成功制备了Y2O3过渡层.结果显示,氮气氛下1050℃热处理1h后,所获得的Y2O3过渡层具有良好的晶体织构,晶体生长取向为(100),完全复制了Ni-SW带模板的结构,为YBCO生长提供了良好的模板.在Y2O3过渡层上制备的YBCO薄膜表现出良好的超导性能.

关键词: 超导 , 过渡层 , 化学溶液沉积 , Y2O3薄膜

高介电材料Y2O3 薄膜的微结构及界面特性的研究

汪洋 , 侯建朝

硅酸盐通报

采用射频反应磁控溅射金属钇耙的方法,在硅衬底成功制备了高介电Y2O3薄膜.并深入研究了Y2O3薄膜的微结构和Y2O3/Si 体系的界面结构在高温退火过程中的变化规律.研究结果表明:在400~500 ℃之间,Y2O3 薄膜有一个从单斜相向立方相的物相结构转变过程.在高温退火过程中,Y2O3/Si有界面层SiO2生成,并且随着退火温度增加,界面层SiO2 的厚度也在逐渐增加.

关键词: Y2O3薄膜 , 微结构 , 界面特性

立方Y2O3薄膜结构、力学及光学性能的研究

王猛 , 李成明 , 朱瑞华 , 刘金龙 , 陈良贤 , 魏俊俊 , 黑立富

人工晶体学报

采用射频磁控溅射法在本征(100)Si片上和CVD金刚石膜上制备了立方(222)择优取向的Y2O3薄膜,应用AFM观察薄膜的三维形貌表明薄膜表面晶粒致密,缺陷较少,表面粗糙度为8.7 nm;TEM表征薄膜微观结构,表明薄膜为柱状晶结构,柱状晶宽度10~20 nm,而且晶界明显,部分较大晶粒中存在些许位错缺陷;纳米力学探针和划痕仪表征薄膜的力学性能,表明薄膜硬度为20.73 GPa,弹性模量为227.5 GPa,可作为金刚石膜的抗氧化保护膜,并且与金刚石膜的结合较好,结合力约为5N;FHR对薄膜的光学性能进行分析,表明双面立方Y2O3薄膜对金刚石膜的最大增透为23%,基本符合Y2O3的理论增透效果.

关键词: Y2O3薄膜 , 射频磁控 , 缺陷

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