周爱萍
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张化福
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刘汉法
人工晶体学报
室温下,利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铝铬共掺杂氧化锌薄膜,研究了溅射功率(55-130 W)对薄膜结构、残余应力、表面形貌及其光电性能的影响.结果表明,ZnO(002)衍射峰的强度随着溅射功率的增大而增强,晶体结构得以改善.晶格常数、压应力和电阻率均随着溅射功率的增大而减小.当溅射功率为130 W时,制备的ZnO:Al,Q薄膜的最低电阻率可达1.09×lO-3Ω·em.功率由55 W增大到130 W时,光学带隙由3.39 eV增大到3.45 eV.紫外-可见透射光谱表明,所有薄膜在可见光范围内平均透过率均超过89%.
关键词:
溅射功率
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磁控溅射
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ZnO:Al,Cr薄膜
