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热处理工艺对室温制备ZnO:Al薄膜结构与光电性能的影响

任明放 , 王华 , 许积文 , 杨玲

人工晶体学报

采用室温溅射加后续退火工艺制备了ZnO∶ Al透明导电薄膜.研究了热处理工艺对薄膜微观结构和光电性能的影响.研究表明:退火有助于减小Al~(3+)对Zn~(2+)的取代造成的晶格畸变,消除应力,促进晶粒长大,有效提高电子浓度和迁移率,降低电阻率;当溅射功率为80 W、退火温度为320 ℃时,薄膜的电阻率可低至8.6×10~(-4) Ω·cm;退火气氛对薄膜的导电性能有较大影响,真空退火可使吸附氧脱附,大大降低薄膜的方块电阻.而退火温度和退火气氛均对ZnO∶ Al薄膜的透光率没有明显影响,薄膜的透光率在86%以上.

关键词: ZnO∶Al , 光电性能 , 磁控溅射 , 退火工艺

退火温度对ZnO∶Al透明导电薄膜结构和性能的影响

于军 , 王晓晶 , 徐玮 , 雷青松

功能材料

采用溶胶-凝胶法(sol-gel)在普通载玻片上制备了ZnO∶Al薄膜,在200~600℃下退火.利用XRD、紫外-可见光-近红外分光光度计和电阻测试仪等分析方法研究了不同退火温度对薄膜结构和光电性能的影响.结果表明,退火温度在300℃以上,薄膜开始结晶,400℃以上,薄膜出现明显结晶,且沿(002)方向择优取向,随着退火温度升高,(002)峰的强度逐渐增强,晶粒尺寸逐渐增加;薄膜在可见光范围内的透过率均>85%以上,退火温度高的薄膜在可见光范围内的透过率明显提高,光学带隙在3.32~3.54eV,且随着温度的升高而降低;薄膜的电阻率随退火温度的增高而有所降低,但是仍较高,在103俜cm量级.

关键词: 退火温度 , 溶胶-凝胶法 , 结构性能 , 透明导电薄膜 , ZnO∶Al

超声喷雾热解法制备ZnO∶Al薄膜及其光电性能研究

杨玲 , 韦帅 , 张婷婷 , 许积文 , 王华

材料导报

以乙酰丙酮锌、乙酰丙酮铝为锌和铝的原料,乙醇和水为溶剂,采用超声喷雾热解法在玻璃衬底上制备了ZnO∶Al透明导电薄膜,研究了Al添加量为0%~20%(原子分数,下同)对ZnO∶Al薄膜光电性能的影响.使用XRD、SEM、DSC、FTIR、四探针、分光光度计对薄膜进行了表征和分析.结果表明,300℃的低温能生长出结晶态的薄膜,Al掺杂引起晶格常数减小;晶粒形貌为片状;随着Al添加量的增加,方块电阻先降低后增大,Al添加量为4.0%时具有最低的方块电阻(4.43 kΩ/sq),最佳的电阻率(0.43 Ω·cm);Al添加量对薄膜的透光率影响较小,平均可见光透光率大于80%.真空热处理可显著降低方块电阻,Al添加量为4.0%的薄膜经过550℃热处理后,其方块电阻降低到106 Ω/sq,相应的电阻率为1.0×10-2 Ω·cm.

关键词: 喷雾热解法 , ZnO∶Al , 方块电阻 , 透光率

溅射电压和铝掺杂对透明导电氧化锌薄膜性能的影响

施昌勇 , 沈克明

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2000.02.018

研究了用微波ECR等离子体反应溅射制备透明导电氧化锌薄膜工艺中靶压及铝的掺入对薄膜电阻率和透光率的影响, 制得电阻率为10-5 Ω.m数量级, 可见光平均透光率大于80%的透明导电ZnO∶Al (AZO) 膜.

关键词: 透明导电膜 , ZnO∶Al , ECR微波等离子体反应溅射

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