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掺杂浓度对电沉积法制备ZnS: Cu光学薄膜影响

朱辉 , 黄剑锋 , 曹丽云 , 曾燮榕 , 熊信柏 , 吴建鹏

人工晶体学报

采用阴极恒电压法在ITO(In2O3-SnO2)导电玻璃表面制备了ZnS: Cu薄膜,并用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和光致发光谱仪(PL)研究了掺杂浓度对ZnS: Cu薄膜的物相组成、显微结构及发光性能的影响.结果表明:控制Cu2+的质量掺杂浓度在0.4%以内,并不会改变ZnS薄膜的物相组成,而且会使薄膜的结晶程度有所提高.研究还发现,在pH=4.0,沉积电压为2 V,掺杂浓度为0.3 %的条件下,所制得的ZnS: Cu薄膜光致发光光谱峰值最大,亮度最高.

关键词: ZnS:Cu薄膜 , 电沉积 , 掺杂浓度 , 光致发光

纳米ZnS:Cu薄膜及谐振腔的制备与特性研究

秦旭峰 , 茅惠兵 , 侯士丽 , 王基庆 , 景为平

人工晶体学报

采用水浴法制备不同掺杂浓度ZnS:Cu纳米薄膜及相应谐振腔.X射线衍射表明,该纳米薄膜具有立方相的闪锌矿结构.光致荧光测量显示,ZnS:Cu薄膜在2.37 eV处有很强的荧光峰.荧光强度与Cu/Zn物质的量比有关,当Cu/Zn物质的量比为0.1%时,ZnS:Cu纳米薄膜荧光强度最强.在由Al膜与ITO薄膜构成的腔长为3.6 μm的ZnS:Cu垂直谐振腔中共观察到10多个荧光干涉峰.经分析确定,该垂直谐振腔的品质因数为30.3.

关键词: ZnS:Cu薄膜 , 光致发光 , 谐振腔

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