潘峰
,
陈长乐
,
文军
,
金克新
,
罗炳成
,
韩立安
,
陈钊
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.05.006
采用射频磁控溅射方法,在Si(111)基片上制备出Zn_(0.85)Mg_(0.13)Al_(0.020)薄膜.X射线衍射(XRD)证实Zn_(0.85)Mg_(0.13)Al_(0.020)薄膜为单相六角钎锌矿结构,衬底温度从室温升高到500℃,薄膜沿c轴择优生长.原子力显微镜(AFM)测量显示薄膜表面粗糙度随衬底温度的升高由9.32nm增加到19.94nm.荧光光谱仪(PL)测量显示薄膜在397nm附近有强的紫光发射,在486nm处有弱的蓝光峰,随衬底温度的升高紫峰强度提高15倍.在可见光范围内,薄膜平均透过率随衬底温度的升高由75%增加到95%,薄膜光学带隙分别为3.18,3.18和3.19eV.分析表明紫峰来自于自由激子复合,蓝峰由俘获在施主能级Zn填隙中的电子与俘获在受主能级Zn空位中的空穴复合而产生发光.
关键词:
Zn_(0.85)Mg_(0.13)Al_(0.020)薄膜
,
衬底温度
,
结构
,
光致发光
