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磁控溅射温度对Zr-N薄膜扩散阻挡性能的影响

丁明惠 , 张宏森 , 张丽丽 , 王颖

功能材料

在不同的沉积温度下,用射频反应磁控溅射的方法在Si(100)衬底和Cu膜间制备了Zr-N阻挡层.用四探针电阻测试仪(FPP)、AFM、XRD、AES研究了沉积温度对Zr-N薄膜扩散阻挡性能的影响.沉积态的XRD、AFM结果表明,随着沉积温度的升高,Zr-N薄膜的结构由非晶态向晶态转变,晶粒的尺寸增大...

关键词: Zr-N薄膜 , 扩散阻挡层 , Cu互连 , 射频反应磁控溅射