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采用反应射频磁控溅射法在 Si(100)基片上制备了ZrO2薄膜, 通过高分辨电子显微镜、原子力显微镜, 研究了沉积工艺参数(主要包括氧分压和沉积温度)对ZrO2薄膜的表面形貌和微结构的影响. 研究结果显示: 氧分压和沉积温度是影响ZrO2薄膜生长行为的重要因素. 随氧分压的增大, ZrO2薄膜的表...

关键词: ZrO2薄膜 , RF magnetron sputtering , film growth , microstructure

新型高K栅介质ZrO2薄膜材料的制备及表征

章宁琳 , 宋志棠 , 沈勤我 , 林成鲁

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.01.017

采用超高真空电子束蒸发法制备了新型高 K栅介质-非晶 ZrO2薄膜. X射线光电子能谱 (XPS) 中 Zr3d5/2 和 Zr3d3/2 对应的结合能分别为 182.1eV和 184.3eV, Zr元素的主要存在形式为 Zr4+,说明薄膜由完全氧化的 ZrO2组成 ,并且纵向分布均一.扩展电阻法(...

关键词: 高K栅介质 , 非晶 , ZrO2薄膜 , 表面粗糙度

氧分压对RF磁控溅射ZrO2薄膜生长特性的影响

马春雨 , 李智 , 李勇 , 张庆瑜

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.02.002

采用反应射频(RF)磁控溅射法在n型(100)单晶Si基片上沉积了ZrO2薄膜,研究了氧分压与ZrO2薄膜的表面粗糙度和沉积速率、SiO2中间界层的厚度以及ZrO2薄膜的折射率之间关系.结果表明:随着氧分压增高,薄膜的沉积速率降低,表面粗糙度线性地增加;在低的氧分压情况下,Si基片表面的本征SiO2...

关键词: 反应射频磁控溅射 , ZrO2薄膜 , 沉积速率 , 表面粗糙度

氧流量对磁控溅射ZrO2薄膜光学性能的影响

戚云娟 , 朱昌 , 梁海峰

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.005

采用反应磁控溅射法在k9玻璃基底上沉积ZrO2薄膜.用轮廓仪、椭圆偏振仪和分光光度计,分别测试薄膜的厚度、折射率、消光系数和透过率,研究了不同氧流量对薄膜沉积速率和光学特性的影响.结果表明:随着氧气流量增加到22～24 mL/min(标准状态下)时,沉积速率从6.8 nm/s下降到2.5 nm/s,...

关键词: ZrO2薄膜 , 反应磁控溅射 , 氧流量 , 光学特性

烧结温度对ZrO2薄膜表面形貌及力学性能的影响

冀国俊 , 李敏 , 张智慧 , 张薇

硅酸盐通报

采用溶胶-凝胶法在玻璃基体表面制备了经300℃,400℃和500℃烧结热处理的ZrO2薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜和纳米压痕仪研究了烧结温度对ZrO2薄膜表面形貌和力学性能的影响.实验结果表明,随着烧结温度的增加,ZrO2的晶体结构由少量的单斜晶相逐渐转变为单斜晶相和四方晶相的混合相.薄膜表...

关键词: ZrO2薄膜 , 烧结温度 , 表面形貌 , 力学性能

二氧化锆栅介质薄膜光学及电学特性研究

马春雨 , 李智 , 张庆瑜

功能材料

采用反应RF磁控溅射法在氧气和氩气的混合气氛中制备了具有较高介电常数、较宽光学禁带间隙的ZrO2薄膜.利用变角度光谱椭圆偏振仪研究了不同O2/Ar流量比下制备所得薄膜的厚度、复折射率、复介电常数和吸收系数,估算了薄膜的光学禁带间隙,并测试分析了在不同O2/Ar流量比下溅射沉积的Al/ZrO2/SiO...

关键词: 光谱椭圆偏振仪 , 介电常数 , ZrO2薄膜 , 光学禁带间隙

溅射气压对ZrO2薄膜微结构与光学性能的影响

刘建华 , 徐可为

功能材料

利用射频反应磁控溅射在显微玻璃、单晶硅片、NaCl和石英上沉积ZrO2薄膜.膜厚60～80nm.研究发现,溅射气压升高,薄膜结晶程度降低,同时存在单斜相和四方相;晶粒尺寸增大;折射率上升;透射率在700～1000nm波段上升.这些结果表明溅射气压影响ZrO2薄膜生长机制、微观结构和成份,进而影响其光...

关键词: ZrO2薄膜 , 磁控溅射 , 溅射气压 , 相结构 , O/Zr

正偏压作用下多弧离子镀ZrO2薄膜的组织结构与力学性能研究

薛旭斌 , 马欣新

材料开发与应用 doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2010.03.008

在氧气和氩气的混合气体中,以O2/Ar流量比固定为1/4的条件,通过改变正偏压大小,采用多弧离子镀方法制备了新型高k栅介质--ZrO2薄膜.通过X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)研究了在不同正偏压作用下正偏压值与薄膜的相结构、表面形貌之间的关系,利用纳米压痕仪测量了不同正偏压作用下沉积得到...

关键词: 高k栅介质 , ZrO2薄膜 , 表面粗糙度 , 硬度