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肖兴成 , 江伟辉 , 宋力昕 , 田静芬 , 胡行方
无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2000.01.033
研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响. 实验结果表明: N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量. 溅射功率的提高增加了沉积速率. 偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不仅使薄膜致密、表面光滑,而且还可以提高膜中的N含量.
关键词: a-CNx膜 , 工艺参数 , 沉积
