刘立强
,
张叔国
,
张国莹
,
牛文贺
,
井敏
,
王晓临
,
王刚
功能材料
采用二次腐蚀法制备了梯度折射率减反射光伏玻璃。SEM分析表明,多孔减反射层的微结构尺度在20～30nm左右,膜层厚度为100～300nm。通过计算模拟,确定了膜层折射率分布形式为Gaussian-like型。制备的梯度折射率减反射光伏玻璃透过率〉96%的带宽超过了1200nm;在390～1022nm波段的透过率〉99%;在350～1084nm的双面反射率〈1%,其中624～922nm的双面反射率低于0.2%。
关键词:
梯度折射率
,
二次腐蚀法
,
减反射
,
光伏玻璃
童亮
,
张朝
,
徐明
,
徐韬
,
魏斌
,
张建华
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.增刊(Ⅱ).019
采用纳米球刻蚀法发展针对有序 Si 纳米柱阵列的低成本及可控制备方法,首先运用 Langmuir-Blodgett法在 n-Si(100)片上制备 SiO2粒子单层膜,并以此为掩膜系统考察深度反应离子刻蚀及低损伤的感应耦合等离子体刻蚀对于 Si 纳米柱表面形貌的影响规律,并且通过控制刻蚀参数有效调控 Si 纳米柱阵列的尺寸、分布及表面结构。反射谱测试结果表明,Si纳米柱阵列可以起到显著的减反射作用,且在400~1000 nm的光谱范围内的最优光反射率约为5%。
关键词:
Si纳米柱阵列
,
纳米球刻蚀
,
可控表面结构
,
减反射
吴勃
,
周明
,
李保家
,
蔡兰
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.21.022
利用飞秒激光在高真空环境下，在316L 不锈钢表面两次交叉扫描制备了周期性微纳结构，并研究了微纳结构对波长范围200~900nm 的光波的吸收增强能力。样品表面微结构形貌与成分采用扫描电子显微镜(SEM)和 X 射线衍射仪测试。第1次扫描采用高能流激光，获得了微米级锥状钉结构，表面覆盖了典型的激光诱导周期性表面结构(LIPSS)。然后将样品旋转90°，采用能流为0.02J/cm2的激光进行第2次扫描，路径与第1次扫描相交。第1次扫描的结构中的LIPSS被第2次低能流激光打断纳米颗粒，从而与锥状钉结构结合形成双尺度微结构。反射率测试结果表明，这种双尺度微结构表面的平均反射率约为2.28%，为光滑表面平均反射率的3.42%。结合XRD分析结果，不锈钢表面获得强陷光性能主要归因于飞秒激光制备的微结构。
关键词:
飞秒激光
,
微结构制备
,
陷光性能
,
不锈钢
王睿飞
,
赵洪力
,
樊庆
,
郭有文
,
储小鹏
硅酸盐通报
采用溶胶-凝胶(sol-gel)旋涂法在玻璃基体上制备SiO2/TiO2双层膜,提高TiO2的光催化性并赋予传统玻璃自洁净功能.通过增加SiO2阻挡层,防止玻璃中的碱金属离子向TiO2层的扩散,同时以多孔SiO2为模版,增加TiO2的比表面积,提高光的利用率,进而提高其光催化活性.对各影响因素进行了研究,得出最佳制备工艺条件.并采用降解甲基橙溶液的方法对其光催化性能进行评价,采用紫外-可见分光光度计对镀膜样品的透射比及吸光度进行测试;采用XRD对薄膜的结构进行分析.实验结果表明:SiO2溶胶陈化时间为4d,调节溶胶pH值为5,母液与阶梯醇的质量比为3∶1,旋涂速度为3000 r/min,加液量为3滴,400℃热处理保温3 min时,制备出的薄膜在可见光范围内的平均透射比可达到94.5％,比未镀膜玻璃基片提高约3.2％,具有最大透射比.400℃热处理6 min的双层膜的光催化性能最好,在紫外灯的照射下对甲基橙溶液的降解率相较于单层二氧化钛光催化薄膜明显提高,提高了25.6％.
关键词:
双层膜
,
减反射性
,
溶胶凝胶法
,
光催化性能
李仁莹
,
王明
,
董国波
,
高方圆
,
唐芳
,
王玫
,
刁训刚
人工晶体学报
采用MPS单极性脉冲磁控溅射法,在PMMA衬底上制备SiO2增透薄膜,通过改变溅射时间达到最优的增透效果.在此基础上,制备了不同溅射时间的ITO薄膜,系统研究了增透前后的可见光透过率、方块电阻和红外发射率的变化.实验结果表明,增透后薄膜可见光平均透光率提高大约6％,对于溅射时间小于60 min的ITO薄膜增透之后的平均透光率达到80％以上,同时薄膜的方块电阻以及红外发射率变化较小.
关键词:
SiO2薄膜
,
增透
,
ITO薄膜
贺春林
,
杨雪飞
,
马国峰
,
王建明
,
赵栋梁
,
才庆魁
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2012.00734
采用扫描电镜和紫外-可见分光光度计研究了Ag粒子在小团聚条件下辅助化学刻蚀Si过程中,刻蚀剂HF和氧化剂H2O2的体积比对刻蚀孔隙结构和刻蚀速度的影响.结果表明,HF和H2O2的体积比对刻蚀Si中的孔隙生长速度和形貌有明显的影响,HF和H2O2的摩尔分数ρ=[HF]/([HF]+[H2O2])过低或过高均不利于孔隙的生长.当60％＜ρ＜80％时,Si可获得快速刻蚀,刻蚀速度为1050-1260 nm/min.此时,孔隙密度高,孔径较大且相互连通,沿垂直Si表面生长.所获得的Si表面对200-1000 nm波段太阳光的平均反射率可降至5.9％.此外,孔隙生长速度和形貌也与Ag颗粒的尺寸和形态密切相关.
关键词:
Si
,
Ag辅助化学刻蚀
,
减反射
