杨磊
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刘涌
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王慷慨
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丛炳俊
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程波
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陆妍
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林俊君
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宋晨路
材料科学与工程学报
doi:10.14136/j.cnki.issn.1673-2812.2015.04.012
透明导电氧化物(TCO)薄膜要求低电阻率和可见光区高透过率.目前最常用的是ITO薄膜存在着有毒、In成本高等难以克服的缺点.NTO薄膜是近年来新发现的一种具备广阔前景的TCO薄膜,但对它的认识还不充分.本文采用APCVD法在玻璃基板上成功制备出了颗粒均匀细小致密的NTO薄膜,探索出最佳反应温度为500℃～550℃,通过高真空退火的方式改善了薄膜晶体质量,光学透过率获得大幅提升,与经过掺杂但未经过H2退火的Nb∶TiO2薄膜和经过H2退火但未掺杂的TiO2薄膜相比较,经过掺杂和H2退火的Nb∶ TiO2薄膜其电学性能得到明显改善.
关键词:
透明导电氧化物薄膜
,
常压化学气相沉积
,
晶体质量
,
光电性能
鲍思权
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姜宏
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赵会峰
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张振华
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王琦
硅酸盐通报
以钛酸异丙酯[Ti(OC4H7)4,TTIP]、单丁基三氯化锡[C4H9SnCl3,MBTC]及三氟乙酸[CF3COOH,TFA]作为反应前驱体,利用常压化学气相沉积法制备具有反射红外及自清洁功能的多功能TiO2/SnO2∶F复合膜镀膜玻璃.通过扫描电镜、X射线衍射及近红外光区反射光谱等技术手段对其进行分析,研究了反应物THIP的流量变化及SnO2∶F薄膜对TiO2薄膜性能的影响.结果表明:随着TTIP流量的增大,TiO2/SnO2∶F在高频近红外波段的反射率逐渐提高,但其光降解甲基橙的性能先提高后降低;SnO2∶F薄膜可以改善复合膜中TiO2的致密性,提高TiO2在近红外的反射率,同时TiO2/SnO2∶F复合膜可以有效延长电子-空穴对的复合时间,从而提高了TiO2薄膜的光降解性能.
关键词:
常压化学气相沉积法
,
TiO2/SnO2∶F复合膜
,
反射红外
,
光降解
马琼
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章海霞
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郭俊杰
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黄增鑫
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王永祯
,
许并社
人工晶体学报
以铜箔为基底通过常压化学气相沉积法制备了高质量、连续的少层石墨烯.采用极化曲线和电化学阻抗谱对纯铜箔及石墨烯/铜样品在0.1 mol/L NaCl溶液中的抗腐蚀性能进行了研究.结果表明,石墨烯/铜样品的自腐蚀电位比纯铜箔的高0.114 V,腐蚀电流密度较纯铜箔的低1个数量级,极化电阻较纯铜箔的高4.4倍,阻抗模值比纯铜箔的提高了约1个数量级.因此,石墨烯可以作为铜表面的保护层,抑制铜在NaCl溶液中发生电化学反应,从而增强铜的抗腐蚀性能.
关键词:
常压化学气相沉积
,
石墨烯
,
电化学测试
,
抗腐蚀性能
