屈钧娥
,
郭兴蓬
中国腐蚀与防护学报
用电化学方法和原子力显微镜(AFM)研究了NaCl溶液中十二胺在铜镍合金表面的缓蚀及吸附行为.结果表明，十二胺对阴极和阳极反应均有抑制作用，但主要抑制了阴极反应.吸附模型的拟合结果证明十二胺在铜镍合金表面的吸附符合Flory-Huggins等温线模型.十二胺吸附膜改变了电极表面双电层结构，使零电荷电位正移.AFM相位图显示，随着缓蚀剂浓度增加，缓蚀剂吸附层变得更加致密和有序，导致缓蚀效率增加.AFM力曲线测试结果指出，含有十二胺的溶液中力曲线显示粘附力特性，而且探针与样品表面之间的长程静电斥力与空白溶液相比有减小趋势.
关键词:
铜镍合金
,
dodecylamine
,
adsorption
,
atomic force microscopy (AFM)
冯峰
,
瞿体明
,
肖绍铸
,
张燕怡
,
史锴
,
韩征和
稀有金属
doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.02.007
哈氏合金Hastelloy C276是一种被广泛应用的镍基合金,具有机械性能优良、抗腐蚀能力强等优势,在第二代高温超导导线的离子束辅助沉积(IBAD)技术路线中被用作金属基底,因此其表面抛光与粗糙度测量受到了广泛重视.哈氏合金的表面形貌和粗糙度测量一般采用原子力显微镜(AFM)方法,在该方法中扫描尺度对测量结果具有显著的影响.本研究对两个分别进行了电化学抛光和机械抛光的哈氏合金带材短样,在1 ～ 70 μm范围内选取不同扫描尺度进行了AFM测量,从而对其表面形貌获得了全面的了解,并发现其表面粗糙度随着扫描尺度的变大出现了明显的增大,文中还在不同扫描尺度下考察了电化学抛光与机械抛光的作用区别.此外,本研究中分析了AFM图像的后处理中flatten阶数的影响,对从AFM图像中分割出小尺度局域计算粗糙度的方法进行了改进,并讨论了AFM测量粗糙度的可重复性问题.通过这些研究,对表面粗糙度的AFM测量方法在全面性和有效性方面进行了完善,提出了粗糙度描述时有必要给出的相关参数.
关键词:
原子力显微镜
,
哈氏合金
,
表面粗糙度
,
扫描尺度
,
抛光
王欣
,
王磊
,
黄丹曦
,
孟晓荣
,
陈立成
,
王旭东
膜科学与技术
以无机纳米粒子(SiO2)与PVDF共混,使用相转化法制得无机-有机平板超滤膜.考察了SiO2含量在1％～3％(质量分数)范围内对PVDF超滤膜的接触角、膜平均孔径及渗透性能的影响.以BSA为标准污染物,通过过滤实验评价了SiO2改性后的PVDF超滤膜的抗污染行为.通过探针修饰,以原子力显微镜(AFM)检测技术定量分析了膜污染过程中膜面与污染物相互间的微观作用力.结果表明,添加SiO2能有效改善PVDF超滤膜的亲水性能,影响膜平均孔径和渗透性能.SiO2质量分数为1％的改性超滤膜(P1膜)孔径最大,接触角最小且渗透性能最佳,膜表面和断面微观结构的SEM表征结果也进一步证实了上述结论.膜污染评价结果显示,在BSA过滤过程中,P1膜通量衰减速度慢、清洗恢复率高,抗污染性能较好.AFM数据显示,膜面与BSA间的粘附力随膜的亲水性增大而下降,并随着污染物在膜表面的累积程度逐渐下降.初步说明膜与BSA间的微观作用力是导致膜污染发生的主要原因,SiO2的添加能够有效降低膜的初期污染进而提高膜抗污染性能.
关键词:
PVDF超滤膜
,
纳米SiO2
,
AFM
,
亲水性
,
膜污染
王磊
,
苗瑞
,
吕永涛
,
刘紫文
,
冯玲
材料导报
依据原子力显微镜(AFM)微颗粒探针克服了AFM普通探针的诸多局限性及其对测试环境无要求,且能定量测定微颗粒探针与膜及污染物间的相互作用力及其变化等特点,在AFM微颗粒探针制备技术的发展及其在分离膜中的应用研究动向的基础上,详细讨论了AFM微颗粒探针的制备方法及其在膜的有机物污染研究中的具体应用,提出了AFM微颗粒探针在分离膜的有机物污染机制解析中亟待研究的问题,为科学地分析分离膜有机物污染机制及分离膜的工程设计与运行提供新的思路和途径.
关键词:
原子力显微镜(AFM)
,
分离膜
,
微颗粒探针
,
膜有机物污染
,
机理解析
熊德平
,
任爱光
,
王琦
,
黄辉
,
黄永清
,
任晓敏
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.01.005
采用两步生长法用金属有机物气相外延技术在GaAs(100)衬底生长InP,用原子力显微镜探索了退火和未退火的低温缓冲层以及InP外延层的表面形貌,测量了他们的表面均方根值,讨论了低温缓冲层表面形貌随生长温度的变化以及退火对其表面形貌的影响,并分析外延层与低温缓冲层表面形貌的依赖关系,外延层表面形貌均方根值与XRD测量值一致,在450 ℃生长低温缓冲层,外延层有最好的表面形貌.
关键词:
退火
,
原子力显微镜
,
均方根
,
低温缓冲层
