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原子层沉积低温制备AZO薄膜?

唐立丹 , 梅海林 , 冯嘉恒 , 王冰

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.18.021

采用原子层沉积技术与改进的Al掺杂模式在石英玻璃基体上低温制备AZO 薄膜,利用椭圆偏振仪、原子力显微镜、X 射线衍射仪、X 射线光电子能谱仪、Hall效应测试仪系统地对样品的生长速率、表面形貌、晶体结构、薄膜成分与电学性能进行了表征和分析.结果表明,采用原子层沉积在150℃下制备 AZO薄膜,其为...

关键词: Al 掺杂 ZnO , 原子层沉积 , 低温生长 , 晶态薄膜

原子层沉积氧化锌应用于铜铟镓硒太阳能电池缓冲层的研究

廖荣 , 张海燕 , 谢佳亮 , 杨铁铮 , 罗文中 , 胡伟

材料导报

用原子层沉积法在钠钙玻璃上沉积氧化锌薄膜,利用场发射扫描电镜和X射线衍射(XRD)等对样品表面形貌和物相进行分析,结果表明得到的ZnO纳米颗粒为六角纤锌矿结构,颗粒的尺寸在30～60 nm之间；测得的ZnO薄膜厚度仅50 nm,符合缓冲层要求；薄膜在可见光区域透射率达90％以上；使用原子层沉积氧化锌...

关键词: 原子层沉积 , 氧化锌薄膜 , 铜铟镓硒太阳能电池 , 缓冲层

原子层沉积技术在微纳器件中的应用研究进展

李惠琴 , 陈晓勇 , 王成 , 穆继亮 , 许卓 , 杨杰 , 丑修建 , 薛晨阳 , 刘俊

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.02.012

原子层沉积( ALD)是一种新型的精确表层薄膜制备技术，具有沉积面积大、薄膜均匀、膜厚纳米级可控生长、低温性等特点，适用于纳米多孔和高深宽比基底材料，可应用于三维微纳结构器件的功能薄膜材料制备，广受国内外学术界和工业界的关注。综述了ALD技术发展历史和技术原理，介绍了ALD技术在微纳器件中的应用进展...

关键词: 原子层沉积 , 薄膜技术 , 高深宽比结构 , 纳米多孔结构 , 微纳结构器件

ALD沉积HfO2薄膜生长行为及其调控

聂祥龙 , 马大衍 , 徐可为

稀有金属材料与工程

采用原子层沉积(ALD)的方法,选择四二乙基氨基铪(TDEAH)和水作为反应前驱体,在p型(100)单晶硅衬底上制备了HfO2高介电质薄膜.系统研究了前驱体流量、反应气压、反应温度等工艺参数对HfO2薄膜生长质量的影响.通过工艺调控,发现存在两种薄膜生长模式:类CVD(化学气相沉积)生长模式和ALD...

关键词: 高介电质薄膜 , HfO2 , 原子层沉积 , 生长行为

半导体学报（英文版） doi:10.1088/1674-4926/33/3/032001

关键词:

原子层沉积生长速率的控制研究进展

卢维尔 , 董亚斌 , 李超波 , 夏洋 , 李楠

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2014.13449

原子层沉积生长技术(ALD)是以表面自限制化学反应为机制的薄膜沉积技术,可以一层一层地生长薄膜.该技术具有生长温度低、沉积厚度精确可控、保形性好和均匀性高等优点,逐渐成为制备薄膜材料最具发展潜力的薄膜生长技术.作为ALD技术中一个关键的指标——生长速率,不仅对沉积所得薄膜的晶体质量、致密度起重要作用...

关键词: 原子层沉积 , 生长速率 , 生长机制 , 位阻效应

原子层沉积技术合成氧化铝薄膜包覆二硝酰胺铵

龚婷 , 秦利军 , 严蕊 , 胡岚 , 姬月萍 , 冯昊

无机材料学报 doi:10.15541/jim20130572

通过原子层沉积(ALD)技术以三甲基铝和水作为前驱体在二硝酰胺铵(ADN)表面沉积氧化铝包覆膜。分别采用扫描电子显微镜(SEM), X射线光电子能谱(XPS)对包覆后ADN的表面形貌、化学成分进行了分析,通过蒸汽吸附分析仪(VSA)对包覆氧化铝薄膜的ADN样品进行了吸湿性测试,并且对ADN表面氧化铝...

关键词: 原子层沉积(ALD) , 二硝酰胺铵(ADN) , 氧化铝 , 吸湿性

原子层沉积工艺制备催化薄膜厚度对生长碳纳米管阵列的影响

杨超 , 李莹 , 闫璐 , 曹韫真

无机材料学报 doi:10.15541/jim20150594

通过原子层沉积(ALD)工艺在硅基底依次沉积氧化铝缓冲层薄膜和氧化铁催化薄膜,然后利用管式炉进行水辅助化学气相沉积(WACVD)生长垂直碳纳米管阵列(VACNTs)。结果表明： ALD工艺制备的氧化铁薄膜经还原气氛热处理可形成碳纳米管阵列生长所需的纳米催化颗粒；氧化铁薄膜厚度与纳米催化颗粒大小以及生...

关键词: 原子层沉积 , 氧化铁 , 水辅助化学气相沉积 , 垂直碳纳米管阵列 , 结构可控 , 三维样品

原子层沉积方法制备低温多层Al2 O3/TiO2复合封装薄膜的研究

周忠伟 , 李民 , 徐苗 , 邹建华 , 王磊 , 彭俊彪

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163106.0532

原子层沉积(ALD)方法可以制备出高质量薄膜，被认为是可应用于柔性有机电致发光器件(OLED)最有发展前景的薄膜封装技术之一.本文采用原子层沉积(ALD)技术，在低温(80℃)下，研究了 Al2 O3及TiO2薄膜的生长规律，通过钙膜水汽透过率(WVTR)、薄膜接触角测试等手段，研究了不同堆叠结构的...

关键词: 有机电致发光器件 , 薄膜封装 , 原子层沉积 , 水汽透过率

原子层沉积技术在新型太阳能电池中的应用?

胡航 , 董兵海 , 万丽 , 孔梦琴 , 赵丽 , 王二静 , 王世敏

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.23.002

原子层沉积技术(ALD)是一项正处于发展之中、在许多领域具有巨大应用前景的新型材料制备技术，该技术在纳米结构和纳米复合结构的制备方面显示出独特的优势，在新型薄膜太阳能电池领域呈现出巨大的发展潜力和前景。首先概述了 ALD技术的工作原理，简要介绍了近几年 ALD技术在硅基太阳能电池和铜铟镓硒薄膜电池(...

关键词: 原子层沉积 , 纳米功能薄膜 , 染料敏化太阳能电池 , 钙钛矿太阳能电池