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原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护

张蕾 , 严川伟 , 屈庆等

腐蚀学报（英文）

用光电子能谱(XPS)、红外光谱(FTIR)和扫描电镜(SE M)研究有和无有机硅涂层的聚酰亚胺(Kapton)在模拟原子氧(AO)环境中表面所发生的侵蚀 作用.结果表明，AO对Kapton有较严重的侵蚀，原来平整的表面形貌变为毛毯状；而所 施用的有机硅涂层的表面形貌则变化甚少，表明该涂层具有较明显的防护效果.这种防护作 用在于，有机硅涂层表面经AO辐照后生成了致密的氧化硅膜层，对抑制AO的进一步侵蚀起到 了关键作用.

关键词: Kapton , atomic oxyen(AO) , degradation , protective