靳福江
,
卢兵
,
朱凤稚
,
罗峰
,
柳星
,
代伟男
,
刘华
,
范峻
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20142904.0521
介绍了新型TFT LCD黑矩阵细线化研究.在原有工艺设备的基础上,突破设备局限和工艺瓶颈,通过引入相掩膜技术和背面曝光设备,达到进一步减小黑矩阵线宽的效果.实验测试结果显示:在普通掩膜板设计上应用相位移掩膜板技术,降低透光区边缘衍射和散射现象,使曝光后黑矩阵线宽降低1.0～1.5 μm.在原有工艺基...
关键词:
黑矩阵
,
线宽
,
相位移掩膜板
,
背面曝光
张锋
,
舒适
,
齐永莲
,
刘震
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20153006.0915
主要分析了黑矩阵残留程度与 SiNx、SiON、SiOx 等基底表面亲水特性的关系,研究了等离子体处理对基底表面亲水特性以及黑矩阵残留的影响。首先,通过原子力显微镜和扫描电子显微镜对黑矩阵在不同基底表面的残留颗粒大小、表面粗糙度进行了测试。然后,使用接触角测试仪对不同基底表面的亲水特性进行了表征,分...
关键词:
等离子体处理
,
亲水性
,
接触角
,
黑矩阵
