朱丽慧
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宋诚
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倪旺阳
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刘一雄
中国有色金属学报(英文版)
doi:10.1016/S1003-6326(16)64273-5
研究加入10% Si(摩尔分数)对 TiAlSiN 涂层的影响。采用阴极电弧蒸镀在 WC?Co 基体上沉积 Ti0.5Al0.5N、Ti0.5Al0.4Si0.1N 和 Ti0.55Al0.35Si0.1N 涂层，通过 X 射线衍射(XRD)、 X 射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、纳米压痕测量和划痕试验研究涂层的显微组织和力学性能，探讨 Si 对涂层的性能和结合失效模式的影响机理。结果表明：加入10% Si 后，涂层中形成非晶 Si3N4包覆(Ti,Al,Si)N 纳米晶的纳米复合结构。TiAlSiN 涂层的硬度和韧性升高，但结合强度下降。与 Ti0.55Al0.35Si0.1N 涂层相比, Ti0.5Al0.4Si0.1N 涂层的硬度较高但韧性较低。TiAlN 涂层由于韧性低、界面结合强，因此结合失效模式以楔形剥落为主。TiAlSiN 涂层由于韧性改善、但界面结合变差，因此结合失效模式以屈曲剥落为主。
关键词:
TiAlSiN涂层
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TiAlN涂层
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阴极电弧蒸镀
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结合强度
