陈祝
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张树人
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杜善义
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杨成韬
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郑泽渔
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李波
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孙明霞
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2006.01011
利用固相反应制备了直径为70mm, 厚度为10～15mm高质量掺杂Li2CO2的ZnO陶瓷靶材, 实验了不同摩尔浓度的Li+掺杂对靶材性能的影响, 确定了最佳Li+掺杂量为2.2mol%, 同时通过在不同温度烧结实验、不同成型压力实验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺, 并采用所制备的ZnO-Li2.2%陶瓷靶和RF(射频磁控)技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向的ZnO薄膜, 其绝缘电阻率ρ为4.12×108Ω·cm, 达到了声表面波器件(SAW)的使用要求.
关键词:
陶瓷靶
,
zinc oxide films
,
RF magnetron sputtering
,
preferred orientation
桑敏
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刘发民
,
丁芃
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毋二省
,
王天民
功能材料
本文采用TiO2陶瓷靶及射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了一系列透明TiO2薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同衬底温度和溅射功率的TiO2薄膜结构和形貌进行了表征,结果随着溅射条件的不同会出现锐钛矿或锐钛矿-金红石的混合相.利用UV-Vis-Nir分光光度计测得的透射光谱表明随着衬底温度和溅射功率的增加吸收边有一定的红移.薄膜的光催化活性通过对罗丹明B溶液的降解效率来表征,结果表明在550℃和130W表面出最佳的光催化效果.
关键词:
TiO2薄膜
,
射频磁控溅射
,
陶瓷靶
,
光催化特性
徐玮
,
于军
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王晓晶
,
袁俊明
,
雷青松
材料导报
利用射频磁控溅射法,采用氧化锌铝(98%ZnO+2%Al2O3)为靶材,在普通载玻片上制备了ZAO(ZnO∶Al)薄膜,研究了溅射功率及溅射气压对薄膜晶体结构、电学和光学性能的影响.采用X射线衍射仪、场扫描电镜对薄膜的结构及表面形貌进行了分析,采用分光光度计和电阻率测试仪对薄膜的光电学性能进行了测试.结果表明,当溅射功率为120W、衬底温度为300℃、工作气压为0.5Pa时制得的薄膜具有良好的光电学性能,可见光平均透过率为88.21%,电阻率为8.28×10-4Ω·cm.
关键词:
磁控溅射
,
陶瓷靶材
,
电阻率
,
透过率
,
ZnO:Al薄膜
董雪振
,
吴任平
功能材料
doi:10.3969/ji.ssn1.001-97312.0151.70.31
以硫化镉（CdS ）为主要原料，氯化镉（C dC l2）为助熔剂，采用干压成型、真空烧结的方式制备CdS陶瓷靶材。探讨了原料性质、烧结温度、CdCl2添加量对靶材相对密度、烧结线收缩率、显气孔率及表面电阻率的影响。用阿基米德法测定靶材密度、用四探针测试仪测试靶材表面电阻率、用X RD测试靶材晶相结构、用SEM 观察靶材微观形貌。实验结果表明，靶材试样的晶相主要为六方相CdS ，晶粒均匀（晶粒大小在3～8μm之间），密度达到45．5 g／cm3，显气孔率45．9％，表面电阻率892．Ω?cm ，能满足磁控溅射镀膜工艺对靶材的指标要求。
关键词:
CdS
,
陶瓷靶材
,
太阳能薄膜电池
