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Nd和Mg共掺杂钛酸铋铁电薄膜的电性能研究?

胡增顺 , 晋玉星 , 杨桦

合成材料老化与应用

利用化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2/Si (100)基底和700℃条件下分别制备了Nd和Mg (不同浓度)共掺杂的钛酸铋薄膜Bi3.15Nd0.85Ti(3-x)Mg2xO12(BNTM)(x=0.00,0.06,0.10和0.14),并进行了这一系列薄膜的包括微结构、介电、铁电和漏电流等特性的研究和对比。发现当Mg含量为x=0.10时,薄膜具有较高的剩余极化强度(2Pr=33.40μC/cm2)和介电常数(ε=538,频率为1kHz),其漏电流密度为10-8A/cm2。讨论了相关的物理机制。

关键词: 铁电薄膜 , 共掺杂 , BNTM , 化学溶液沉积法

CSD法在亲水性的FTO基板上制备BiFeO3薄膜及其电性能的研究

程蒙 , 谈国强 , 夏傲 , 任慧君 , 王艳

功能材料

利用化学溶液沉积法在亲水性的FTO基板上制备BiFeO3薄膜。利用XRD、FE-SEM、XPS、Agi-lent E4980A精密LCR仪及TF-Analyzer2000等分析手段对BiFeO3薄膜进行表征。结果表明,薄膜为纯相的结晶良好的多晶BiFeO3薄膜,由100~300nm的BiFeO3晶粒紧密的堆积而成,表面均匀平整。薄膜厚度为450nm。Fe的氧化态为Fe3+,并没有Fe2+出现。在10kHz时,介电常数和损耗分别为134和0.005。薄膜的剩余极化率为0.58μC/cm2,在0~250kV/cm的测试电场下漏导电流步伐保持在10-6 A/cm2以下。

关键词: BiFeO3 , 多铁薄膜 , 化学溶液沉积法 , 亲水性

改进型前驱液对化学溶液法制备YBCO薄膜的影响

金利华 , 张云 , 于泽铭 , 王耀 , 李成山 , 闫果 , 卢亚锋

低温物理学报

传统全三氟乙酸前驱液对涂敷环境湿度、低温预分解过程中的升温速率和水汽分压等因素具有敏感性,采用改进型前驱液可以降低其敏感性,从而有利于涂层导体的连续制备.我们提出的改进型前驱液中,三氟乙酸钇、三氟乙酸钡和苯甲酸铜是前驱体,甲醇和丙酸的为溶剂.采用化学溶液法在铝酸镧单晶衬底上制备YBCO,低温分解阶段以1~5℃/min快速升温,可以获得低温后的前驱膜光滑完整,无裂纹.通过X衍射分析和扫描电镜分析了薄膜的织构和表面微结构,四引线法测试薄膜超导电性.采用改进型前驱液制备的薄膜超导转变温度(T_c)为90K,在77K、自场下临界电流密度(J_c)为1MA/cm~2.

关键词: 涂层导体 , 化学溶液法沉积 , 快速制备 , 苯甲酸铜

Dy~(3+)掺杂BiFeO_3薄膜的晶格转变和磁性能研究

刘珊 , 李剑 , 潘伟

稀有金属材料与工程

以硝酸铋、硝酸铁以及硝酸镝等无机硝酸盐为原料通过化学液相法在Pt(111)/Ti/SiO_2/Si上制备了Dy~(3+)掺杂的BiFeO_3薄膜,研究了Dy~(3+)掺杂量的变化对Bi_(1-x)Dy_xFeO_3薄膜的晶体结构和磁性的影响.Dy~(3+)掺杂量不高于10%的Bi_(1-x)Dy_xFeO_3薄膜可以得到与纯BiFeO_3相同的晶体结构.随着Dy3+掺杂量的进一步增大,Bi_(1-x)Dy_xFeO_3薄膜的晶体结构发生变化,晶格从菱心结构转变为单斜或四方结构.磁性测试显示:随着Dy~(3+)掺杂量的增加Bi_(1-x)Dy_xFeO_3薄膜的磁性增强,同时从无饱和磁化强度和零磁滞的S型磁化曲线的形状判断,薄膜由于铁磁反铁磁转变时两磁性相竞争表现出自旋玻璃态的特征.

关键词: 稀土离子掺杂 , BiFeO_3薄膜 , 磁性 , 化学液相法

高分子辅助化学溶液沉积法制备高温超导涂层导体BaZrO3(BZO)缓冲层的研究

张欣 , 王文涛 , 张敏 , 张勇 , 张酣 , 雷鸣 , 赵勇

功能材料

采用高分子辅助化学溶液沉积法,在Sr-TiO3(STO)单晶基底上制得了一系列高温超导涂层导体BaZrO3(BZO)缓冲层。研究结果表明,不同高分子辅助沉积的BZO缓冲层其形貌和织构差异较大。利用聚乙烯醇缩丁醛(PVB)辅助制得BZO缓冲层表面更加平整致密,无裂纹存在,并具有优异的双轴织构。通过台阶仪测试该BZO缓冲层的膜厚,结果显示膜厚超过250nm。

关键词: 高分子辅助 , 化学溶液沉积法 , 涂层导体 , BaZrO3缓冲层

ZnO纳米棒阵列膜的制备及其光电化学性能研究

王海锋 , 王树林 , 蹇敦亮 , 陈海燕 , 丁浩冉

功能材料

采用化学溶液沉积法,在ZnO纳米颗粒膜修饰的FTO导电玻璃基底上,制备了ZnO纳米棒阵列。用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、透射电子显微镜(TEM)对样品进行表征。研究结果表明所制备的ZnO纳米棒为六方纤锌矿相单晶结构,沿c轴择优取向生长,平均直径约为40nm,长度约为900nm;ZnO纳米棒阵列生长致密,取向性较一致。以曙红Y敏化的ZnO纳米棒阵列膜为光阳极制作了染料敏化太阳能电池原型器件,在光照强度为100mW/cm2下,其开路电压为0.418V,短路电流为0.889mA/cm2,总的光电转换效率为0.133%。

关键词: ZnO纳米棒阵列 , 化学溶液沉积 , 曙红Y , 染料敏化太阳能电池

化学溶液沉积法制备Y2O3过渡层

岳建设 , 李祯 , 王晓芳

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.10.018

为了满足YBa2Cu3O7(YBCO)超导带材生产实际的需要,在金属基带和YBCO超导薄膜之间制备一层合适的氧化物过渡层显得尤为重要.以乙酸钇为原料配制前驱体溶液,采用金属盐化学溶液沉积法在织构的Ni-5%W(质量分数)(Ni-5W)带上成功制备了Y2O3过渡层.结果显示,氮气氛下1050℃热处理1h后,所获得的Y2O3过渡层具有良好的晶体织构,晶体生长取向为(100),完全复制了Ni-SW带模板的结构,为YBCO生长提供了良好的模板.在Y2O3过渡层上制备的YBCO薄膜表现出良好的超导性能.

关键词: 超导 , 过渡层 , 化学溶液沉积 , Y2O3薄膜

热处理过程对LZO膜织构的影响

唐晓东 , 于泽铭 , 李成山 , 张平祥

低温物理学报

La2Zr2O7(LZO)氧化物被认为是一种良好的涂层导体用缓冲层材料.本文对采用化学溶液沉积技术制备具有单一c轴取向的La2Zr2O7(LZO)膜的热处理参数的影响进行了研究.研究结果显示在前驱膜热解过程中控制气流速度十分关键,大气流速度有利于获得具有单一c轴取向的LZO膜.对前驱膜热解过程的气体流动情况进行良好的控制可以在很宽泛的热处理条件下制备出具有单一取向的LZO膜.

关键词: La2Zr2O7膜 , 化学溶液沉积技术 , 缓冲层

化学法动态热处理制备LZO缓冲层

于泽铭 , 金利华 , 王耀 , 李成山 , 张平祥

稀有金属材料与工程

对采用化学溶液沉积技术动态热处理制备La2Zr2O7(LZO)缓冲层进行了研究.结果显示,制备长样品时,侧向进气更有利于驱散热解气体,降低样品织构的不均匀性.当侧向进气方向与样品表面法线方向夹角较小时,更有利于提高LZO缓冲层的织构特性.LZO缓冲层的织构和表面形貌受样品移动速度影响的主要原因是样品移动速度的变化直接改变了样品的热处理时间.优化动态热处理过程后制备出的LZO缓冲层表面致密,LZO缓冲层具有锐利的立方织构,织构锐利度与金属基带织构相当.

关键词: La2Zr2O7(LZO)缓冲层 , 化学溶液沉积技术 , 动态热处理

热处理参数对LZO膜外延生长的影响

于泽铭 , 王耀 , 金利华 , 李成山 , 张平祥

稀有金属材料与工程

研究了热处理参数对LZO膜外延生长的影响.结果显示实验条件范围内,升高热处理温度、延长热处理时间和加快升温速度有利于提高(400) LZO衍射峰的强度.相对于热处理温度、热处理时间和升温速度,LZO膜的织构类型对热处理时的氧分压十分敏感,氧分压直接影响到能否制备出具有单一织构成分的LZO膜.进一步分析显示,传统的形核生长理论可以很好地解释热处理温度、热处理时间和升温速度对LZO膜外延生长的影响.增加氧分压对LZO膜的外延生长存在双重作用,一方面提高氧分压可以降低膜中的积碳量,有利于LZO晶粒的长大,但另一方面,提高氧分压降低膜中的积碳后将导致对自发形核长大过程的抑制作用减弱,最终使得LZO膜不具有单一的立方织构.因此,更合理地控制/改变不同热处理阶段的氧分压才能在改善LZO膜生长动力学的同时又不影响其外延生长.

关键词: La2Zr2O7(LZO)缓冲层 , 化学溶液沉积技术 , 外延生长

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