Z.Z.Yi
,
X.Zhang
,
T.H.Zhang
金属学报(英文版)
The Ti+C+N film was co-deposited on H13 steel by Filtered Vacuum Arc PlasmaDeposition (FVAPD) operated with a modified cathode. The co-deposited layer waseffective for the improvement of surface hardness and corrosion resistance. The nano-hardness value of the co-deposited film is 1.3 times more than that of undepositedsample. The corrosion behavior measurement shows that the corrosion resistance foracid corrosion and pitting corrosion was improved greatly. It is owing to the formationof the new ternary ceramic phase TiCo.7 No.3 in the co-deposited layer. The mechanismof property improvement is discussed.
关键词:
co-deposition
,
null
,
null
,
null
李西娟
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李澄
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王加余
,
张学德
,
尹成勇
,
郑顺丽
,
徐云玲
中国腐蚀与防护学报
采用水相分离法制备了以甲基硅油为囊芯、聚乙烯醇为囊壁的疏水性液体微胶囊,并以其作为电沉积组分,研究渐变电流密度下的复合铜镀层电沉积工艺,对所制备的复合铜镀层表面微观形貌和疏水性进行表征,同时考察镀层在酸性腐蚀环境下对基体的保护效果.结果表明,所制备的含液体微胶囊复合铜镀层较纯铜镀层结晶更加致密；H2O在其表面的润湿性下降,接触角从90°增大至131°;复合镀层在1％(质量分数)H2SO4溶液中的自腐蚀电流密度较纯铜镀层降低3个数量级,自腐蚀电位由-0.63V正移至-0.27V,显示出良好的耐蚀性.
关键词:
复合电镀
,
液体微胶囊
,
铜镀层
,
疏水性
,
耐腐蚀性
李西娟
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李澄
,
王加余
,
张学德
,
尹成勇
,
郑顺丽
,
徐云玲
中国腐蚀与防护学报
采用水相分离法制备了以甲基硅油为囊芯、聚乙烯醇为囊壁的疏水性液体微胶囊,并以其作为电沉积组分,研究渐变电流密度下的复合铜镀层电沉积工艺,对所制备的复合铜镀层表面微观形貌和疏水性进行表征,同时考察镀层在酸性腐蚀环境下对基体的保护效果.结果表明,所制备的含液体微胶囊复合铜镀层较纯铜镀层结晶更加致密；H2O在其表面的润湿性下降,接触角从90°增大至131°;复合镀层在1％(质量分数)H2SO4溶液中的自腐蚀电流密度较纯铜镀层降低3个数量级,自腐蚀电位由-0.63V正移至-0.27V,显示出良好的耐蚀性.
关键词:
复合电镀
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液体微胶囊
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铜镀层
,
疏水性
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耐腐蚀性
马治
,
陈焕铭
,
潘凤春
,
席丽莹
,
林雪玲
,
王琴
,
吕琼
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.10.003
目的：对NdFeB磁性材料进行表面防护处理，改善其耐腐蚀性能。方法利用化学镀方法，在NdFeB基体材料表面制备氧化物颗粒增强的晶态和非晶态Ni-W-P/Nb2 O5复合镀层，对镀层的组织形貌、元素组成分布及物相进行分析，并通过化学腐蚀失重法对耐腐蚀性能进行测试。结果当镀液中的次亚磷酸钠含量为20 g/L时，形成了晶态镀层；为35 g/L时，形成了非晶态镀层。晶态和非晶态Ni-W-P/Nb2 O5镀层均由胞状突起组成，其中弥散分布着共沉积的Nb2 O5颗粒。镀层样品的XRD图谱中没有出现与钕铁硼相关的衍射峰。对于制备的晶态和非晶态复合镀层，镀液中Nb2 O5质量浓度由5 g/L增加到15 g/L时，化学腐蚀速率明显下降；Nb2 O5质量浓度由15 g/L增加到20 g/L时，化学腐蚀速率的下降变得缓慢。结论利用化学镀可以在NdFeB磁性材料表面制备致密的Nb2 O5增强Ni-W-P复合镀层，且随着Nb2 O5含量的增加，复合镀层的耐腐蚀性能提高。
关键词:
化学镀
,
Ni-W-P/Nb2 O5 复合镀层
,
耐腐蚀性能
,
钕铁硼
,
颗粒增强
,
共沉积
谭澄宇
,
崔航
,
胡炜
,
刘宇
,
郑子樵
稀有金属材料与工程
利用循环伏安(CV)、计时安培(CA)和电化学阻抗(EIS)研究了纳米Al_2O_3颗粒在不同电位(vs. SCE)下对Ni自硫酸盐镀液在铜基体上电沉积的影响.结果表明,Ni-Al_2O_3体系共沉积的起始电位为:-740 mV左右;在不同的电位下,纳米-Al_2O_3颗粒对镍沉积过程的影响有所差别;在电位-740~ -830 mV范围,与纯Ni沉积相比较,Ni-Al_2O_3体系沉积的峰电流所对应的孕育期tm明显缩短,反映Al_2O_3颗粒在阴极表面有利于镍沉积成核,且促进了电结晶成核.Al_2O_3颗粒吸附在阴极表面可能会阻碍部分离子电荷放电和物质传输过程,尤其在电位-250~ -650 mV范围,致使Ni-Al_2O_3体系沉积阻抗增加.在较高的过电位下,Al_2O_3颗粒的促进作用有所减弱,许多颗粒堆积在电极表面上还可能减小Ni-Al_2O_3沉积的还原反应电流.在电位-890 mV,Ni-Al_2O_3体系电沉积初期阶段的成核过程基本遵循三维的Scharifker-Hill瞬时成核模式.
关键词:
Ni-Al_2O_3薄膜
,
电结晶成核
,
共沉积
,
I-t
,
曲线
马治
,
陈焕铭
,
潘凤春
,
吕琼
,
王琴
,
林雪玲
,
席丽莹
兵器材料科学与工程
利用晶态镀液在钕铁硼磁性材料基体表面共沉积Ni-P-W-Nb2O5复合镀层,对镀层的电化学性能、共沉积镀层与基体的结合性能及镀层的显微硬度进行测试.结果表明:当晶态镀液中Nb2O5颗粒的质量浓度为5～15 kg/m3时,共沉积Ni-P-W-Nb2O5复合镀层的电化学性能及其与基体间的结合强度随镀液中Nb2O5颗粒浓度的增加而增加;当镀液中Nb2O5颗粒的质量浓度由15 kg/m3增加到20 kg/m3时,镀层的电化学性能及其与基体间的结合强度有所下降.显微硬度测试结果表明,共沉积Ni-P-W-Nb2O5复合镀层的硬度随着镀液中Nb2O5颗粒浓度的增加呈单调增加趋势.
关键词:
钕铁硼
,
共沉积
,
Ni-P-W-Nb2O5
,
镀层性能
陈洪玉
,
张海军
,
孙俭峰
,
钱兵羽
稀有金属
采用微米Al和纳米CeO2颗粒与Ni复合的方法在Ni基上制备了3种不同Al含量的Ni-Al-CeO2复合镀层,作为对比采用相同的工艺制备了不含纳米CeO2颗粒的Al含量相当的Ni-Al复合镀层.微米Al颗粒尺寸范围为1～5μm,纳米CeO2颗粒平均尺寸为10nm.SEM/EDAX和TEM分析结果表明,纳米CeO2颗粒的添加细化了基体Ni的晶粒.950℃下恒温氧化实验结果表明:在相同的Al颗粒含量条件下,不管Ni-Al复合镀层是形成NiO还是Al2O3氧化膜,纳米CeO2颗粒的加入都提高了Ni-Al镀层的抗氧化性能.同时对CeO2影响Ni-Al复合镀层的氧化性能进行了详细的分析.
关键词:
共沉积
,
氧化
,
活性元素效应
郦智斌
,
鹿文姗
,
张昭
腐蚀与防护
采用循环伏安技术、计时安培技术和扫描电镜技术研究了碱性锌酸盐体系中Zn-Ni合金镀层在A3钢表面的电沉积行为.结果表明,在Zn-Ni合金镀层共沉积之前,富镍层优先在A3钢表面沉积；镀液中Zn2+的阴极还原阻碍了Ni2+的阴极还原反应,而Ni2+则促进了Zn2+的电沉积过程；Zn-Ni合金镀层的电沉积过程遵循扩散控制下的二维(2D)成核/生长机制.
关键词:
Zn-Ni合金镀层
,
共沉积
,
电沉积
