张艳梅
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何俊杉
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朱用洋
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林国毅
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张志勇
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张子威
电镀与涂饰
先用二次阳极氧化法在纯铝表面制备出多孔阳极氧化铝(AAO)膜,再通过交流电沉积法在膜孔内沉积铜纳米线,制备出载铜AAO膜.然后用氢氧化钠溶液腐蚀除去部分AAO模板,裸露出的铜纳米线在其表面构造出柱状纳米粗糙结构,最后经过月桂酸乙醇溶液浸泡(低表面能修饰).烘干后该表面与水滴的接触角为153.8°,滚动角小于1°,表现出超疏水性.
关键词:
铝
,
阳极氧化
,
电沉积铜
,
纳米线
,
月桂酸
,
修饰
,
水接触角
,
超疏水性
罗晶晶
,
范旭良
,
马荣伟
,
胡浩
,
牛振江
电镀与涂饰
在FTO(即掺杂氟的SnO2透明导电玻璃)基底上采用两步恒流电沉积，得到厚度约500 nm的金属Cu薄膜，然后置于SnO2溶胶中浸渍并经175°C加热氧化，制得由超薄SnO2修饰的Cu2O多孔薄膜。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电镜(SEM)和漫反射–紫外可见光谱(UV-Vis DRS)表征了试样的结构、形貌及光学性质。通过在0.2 mol/L Na2SO4溶液中测试样品在可见光和零偏压下的光电流，分析了薄膜的光电化学性能。结果表明，超薄的SnO2修饰层能显著增强Cu2O多孔薄膜的光电化学性能。在SnO2溶胶中浸渍10 s所制备的超薄SnO2修饰Cu2O多孔薄膜，其光电流密度是Cu2O未修饰薄膜的4倍。
关键词:
电沉积铜
,
氧化亚铜
,
二氧化锡
,
薄膜
,
光电化学
,
光电流密度
任兵
,
杜楠
,
崔宇
,
邱媛
,
于宽深
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2016.05.002
研究了酒石酸钾钠对羟基乙叉二膦酸(HEDP)镀铜形核的影响.通过线性扫描伏安、交流阻抗和循环伏安曲线研究铜沉积的电化学行为.随着镀铜液中酒石酸钾钠含量的提高,阴极极化曲线负移,X-射线衍射结果表明,晶粒由44 nm减小到40 nm;酒石酸钾钠的加入使循环伏安电流环消失;在-1.44、-1.45和-1.46V的电位下,酒石酸钾钠的质量浓度在0～21 g/L内,镀液中铜离子在玻碳电极上的形核方式都为三维瞬时形核,不改变铜的形核方式;酒石酸钾钠的质量浓度增加到21 g/L,成核数密度和晶核垂直生长速率较基础液都有所增大;在电位-1.00 ～-1.20V之间,铜络离子还原的表观反应活化能随着电位负移而减小,表观反应活化能由14 kJ/mol增大到25kJ/mol,电极反应由扩散控制转向扩散过程和电极反应过程联合控制.
关键词:
羟基乙叉二膦酸
,
铜电沉积
,
成核机理
,
酒石酸钾钠
