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在U表面循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Al层

鲜晓斌 , 吕学超 , 张永彬

腐蚀学报（英文）

用循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀(MSIP)法在U表面 上镀Al，并采用俄歇电子能谱仪(SAM)、扫描电镜(SEM)、电化学实验和湿热腐蚀加速实验， 研究了其表面、剖面形貌和耐蚀性能，以及U基和Al镀层界面.结果表明：U上循环Ar+轰 击-磁控溅射离子镀Al界面存在较宽的原子共混区，且耐蚀性能明显优于常规磁控溅射离子 镀Al.

关键词: Al镀层 , repeated Ar+ bombardment , interfaces , corr osion resistance