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电镀镍工艺在电接触元件生产中的应用

刘建平 , 刘渊 , 覃庆生

电镀与涂饰

镍镀层作为生产电接触元件中铜基体和银复合层之间的过渡层,其可塑性、抗张强度、韧性和延展性均须满足一定的要求.介绍了电接触元件的生产工艺,对适合于电接触元件的镀镍工艺进行了探讨,获得了较好的镀镍工艺条件:NiSO4·7H2O250 ~ 350 g/L,NiC12·6H2O 25 ~ 30 g/L,H3BO3 30 ~ 40 g/L,MgSO4 20 ~ 50 g/L,(C12H25SO4)Na 0.01~ 0.02 g/L,pH 3 ~4,温度40 ~ 50℃,电流密度2.0~2.5 A/dm2.该镀镍工艺操作简单,镀液稳定,所得镍镀层光亮平整、延展性好,可以90°折弯而不出现裂纹,成品合格率达98.5%以上.

关键词: 电接触元件 , , , 电镀 , 抛光

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