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射频磁控溅射WO3薄膜电致变色性能研究

冯志鹏 , 魏峰 , 赵鸿滨 , 杨志民

稀有金属 doi:10.13373/j.cnki.cjrm.XY15033101

采用射频磁控溅射技术在透明导电氧化铟锡(ITO)玻璃上沉积了不同工作压强和不同氧分压(氧氩比)条件下的WO3薄膜并研究了其电致变色特性.采用X射线衍射分析(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了所制备薄膜的成分结构和表面形貌,采用电化学测试工作站和紫外可见双束分光光度计对薄膜的电致变色循环伏安特性和光调制性能进行了研究.结果表明,射频磁控溅射制备的WO3薄膜的成分结构和电致变色循环伏安特性之间存在着一定的影响关系;相对于氧分压,薄膜沉积过程中的工作压强对WO3薄膜的成分结构和电致变色性能的影响更加明显,随着工作压强的增大,薄膜由晶态逐渐转变为非晶态,薄膜表面微观结构更加粗糙,进而具有更优的循环伏安特性和更宽的光调整范围.

关键词: WO3薄膜 , 射频磁控溅射 , 电致变色 , 循环伏安 , 工作压强

锰掺杂氧化镍薄膜的电沉积及性能

陈娜 , 苏革 , 柳伟 , 曹立新 , 马德文 , 戚新颖

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2014.11.012

通过有机体系电化学沉积法制备了未掺杂及锰掺杂氧化镍薄膜,并通过SEM、EDS、紫外-可见分光光度计和电化学工作站对其形貌、成分、光学及电化学性能进行了研究.结果显示:薄膜由团聚颗粒构成,锰的掺入使团聚颗粒细化,随锰掺入量的增大,薄膜颗粒出现择优方向聚集,形成蠕虫状;锰掺杂还使薄膜的光学及电学性能得到改善,薄膜在550nm处的透光率差值由68%提高到93%,着色效率增至30.9 mC·cm-2;电致变色可逆性得到明显改善,响应(消色/着色)时间有所减小.

关键词: 锰掺杂氧化镍薄膜 , 电致变色性能 , 有机体系电沉积

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