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铜离子浓度对电解铜箔组织性能的影响

针对国内超薄电解铜箔生产工艺不稳定问题,选择较易控制的参数——铜离子质量浓度为对象,在仅含硫酸、明胶和氯离子的镀液中研究其对电解铜箔表面形貌、毛面粗糙度、织构、抗拉强度和伸长率的影响.结果表明,电解液中铜离子质量浓度较低时,铜箔晶粒很不均匀,出现许多大尺寸晶粒.随铜离子质量浓度增大,铜箔晶粒的均匀性改善,毛面粗糙度减小,织构几乎不变,力学性能改善.适宜的铜离子质量浓度为80 ～ 90 g/L.

关键词: 电解铜箔 , 电镀 , 铜离子 , 晶粒 , 织构 , 抗拉强度 , 伸长率

采用无添加剂的铜盐–硫酸体系对电解铜箔进行多步粗化，一方面能保证铜箔具有较高的抗剥强度，另一方面能防止表面铜颗粒脱落。研究了电流密度、电解液铜含量、硫酸含量、温度等因素对粗化效果的影响。结果表明，电流密度是粗化的主要影响因素，通过调节电流密度可同时达到粗化和固化效果。最佳粗化工艺条件为：Cu2+30 g/L，H2SO4110~150 g/L，温度35°C，前3步粗化电流密度270 A/dm2，后8步粗化电流密度40 A/dm2，总时间17~30 s。采用该工艺处理电解铜箔，所得粗化层表面无铜粉脱落，粗糙度大于8.40μm，抗剥强度大于2.10 N/mm，满足厂家要求。

关键词: 电解铜箔 , 粗化 , 电流密度 , 抗剥强度

电解铜箔用涂层钛阳极表面结垢的去除

徐海清 , 胡耀红 , 陈力格 , 秦足足 , 廖磊华 , 张招贤

电镀与涂饰

采用X射线衍射(XRD)、X射线荧光光谱分析(XRF)测试了失效电解铜箔用钛阳极表面结垢成分，考察了BH?阳极除垢剂对电解铜箔用钛阳极表面结垢的去除效果，通过循环伏安曲线、极化曲线、强化寿命测试分析了 BH?阳极除垢剂对钛阳极电催化活性的影响，给出了电解铜箔用钛阳极在应用过程中的维护措施。结果表明，BH?阳极除垢剂可以有效去除结垢而不会破坏钛阳极表面的贵金属涂层，有利于延长钛阳极的寿命。

关键词: 涂层钛阳极 , 电解铜箔 , 失效 , 除垢剂

电解铜箔生产中电镀铬与电镀镍钼合金的性能对比

王海振 , 胡旭日 , 王维河 , 徐树民

电镀与涂饰

对电镀镍钼合金代替六价铬电镀工艺进行了研究,测试了表面处理前后电解铜箔在高温(180℃)和常温下的抗拉强度及延伸率,对比研究了电解铜箔表面电镀铬和电镀镍钼合金后的耐高温(180～210℃)氧化性、常温(80℃)抗氧化性能,以及蚀刻后或蚀刻加盐酸浸泡30 min后的剥离强度和劣化率.研究发现,表面处理不会影响电解铜箔的延伸率和抗拉强度.电镀镍钼合金试样的高温抗氧化性比电镀铬好,常温抗氧化能力以及耐酸碱腐蚀性能与电镀铬试样相当,蚀刻后的剥离强度和劣化率稍低,但仍符合浸于盐酸前后的剥离强度都不低于1.80N/mm、劣化率小于5.0％的生产要求.本研究为电镀镍钼合金代替电镀铬工艺的实现提供了依据.

关键词: 电解铜箔 , 电镀 , 铬 , 镍钼合金 , 抗氧化 , 耐蚀性

电解铜箔镀锌镍钴合金及其性能

简志超 , 彭永忠

电镀与涂饰

对电解铜箔的毛面电镀锌镍钴合金.镀液组成和工艺条件为:NiSO4·6H2O 15～30 g/L,ZnSO4·7H2O 5～15 g/L,CoSO4·7H2O 2～4g/L,配位剂110～150g/L,添加剂B0.1～0.5 g/L,温度50～60℃,pH8～11,电流密度2～6A/dm2,时间3～5s.对镀锌镍钴合金镀层的微观结构、高温抗变色性、抗拉强度、耐热性、耐蚀性等性能进行表征.结果表明,所得锌镍钴合金镀层均匀,呈暗红色,对电解铜箔抗拉强度和延伸率的影响不大.镀锌镍钴合金铜箔的耐热性和耐蚀性优于镀锌镍合金铜箔.另外,镀锌镍钴合金铜箔的高温抗变色性和蚀刻性极好,在蚀刻过程中铜箔无侧蚀现象.

关键词: 电解铜箔 , 锌镍钴合金 , 毛面 , 机械性能 , 蚀刻

电解铜箔表面电沉积Zn-Ni-P-La合金工艺

谭育慧 , 王艳 , 章朦 , 高继兴 , 徐庆 , 唐云志 , 杨韶平

应用化学 doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2015.04.140266

为了缓解我国高性能铜箔依靠进口的局面,进行了将类金属(P)和稀土金属(La)引入电解铜箔锌镍合金镀层中以获得高耐腐蚀性铜箔的实验.利用电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等技术手段分析镀层质量.在最佳工艺下获得非晶态Zn-Ni-P-La合金镀层,镀层表面平整均匀、结晶致密,未钝化的情况下,铜箔镀件在180℃烘箱中保持1h不变色,表现出较理想的抗氧化和抗腐蚀能力.表明镀层中适量的P和稀土La对改善镀层质量有着重要的作用,具有较好的工业应用前景.

关键词: 电解铜箔 , 合金电沉积 , 稀土添加剂 , 非晶态

不同聚合度壬基酚聚氧乙烯醚在酸性光亮镀铜中的应用

张震 , 黄金豆

中国有色金属学报 doi:10.19476/j.ysxb.1004.0609.2017.03.026

为研究壬基酚聚氧乙烯醚(NP(EO)n)可用作酸性光亮镀铜载体光亮剂的原因以及不同聚合度NP(EO)n对铜沉积过程的动力学参数和沉积层表观形貌的影响,以NP-10、NP-15、NP-20、NP-40配合Cl?-DPS作为50℃CuSO4-H2SO4镀液的添加剂,采用电势扫描交流阻抗法研究NP(EO)n在电极表面吸附双电层的形态,采用线性电势扫描和计时电流法研究NP(EO)n对电沉积过程的影响,并采用扫描电子显微镜和X射线衍射表征沉积层的形貌及晶面取向.结果表明:NP(EO)n在电极表面的吸附层阻碍Cu2+的扩散,增强极化,细化晶粒;由于NP(EO)n吸附层亲水链长度不同,对Cu2+的屏蔽程度不同,对电沉积影响各异;NP(EO)n链长越长,沉积层的形貌越佳.

关键词: 壬基酚聚氧乙烯醚 , 吸附 , 电解铜箔 , 成核 , 形貌