谢学军
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龚洵洁
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彭珂如
腐蚀学报（英文）
通过高压釜、电化学和XPS(X射线光电子能谱)、SEM(扫描电镜)表面分析试验, 研究了咪唑啉类缓蚀剂BW的高温成膜条件和成膜机理. 研究结果表明, BW是一种混合型缓蚀剂, 通过N原子2p轨道上的孤对电子和Fe的3d空轨道之间形成配位键在金属表面成膜; 在试验浓度和温度范围内, BW的浓度越高、控制的高压釜温度越高, 成膜效果越好; 当BW在高压釜中的浓度达到40 mg/L、 pH为9.5~10.0、恒温温度为280℃~320℃、成膜时间为2 h时, BW在金属表面的成膜效果良好.
关键词:
咪唑啉类缓蚀剂
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film-forming condition
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film-forming mechanism
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high temperature
