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射频磁控溅射制备TiO2光催化薄膜的表征

郑树凯 , 郝维昌 , 潘峰 , 张俊英 , 王天民 ,

稀有金属材料与工程

在不同的Ar和O2气流量比下,利用射频磁控溅射技术在载波片上制备了TiO2薄膜.利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜(AFM),拉曼光谱和UV-VIS-NIR分光光度计等技术对薄膜进行了表征.结果表明在Ar∶O2=20 sccm∶5 sccm下制备的薄膜具有较高的光催化活性.

关键词: TiO2薄膜 , 流量比 , 表面粗糙度 , 光催化活性