任建世
,
张功杼
,
王桢枢
,
刘根
,
刘圣麟
金属学报
在恒定气压和电压条件下,用测量溅射减量的方法,系统研究了Cr—Fe,Bi-Sb,Cu—Zn,Ag—Cu,Al-Zn和Cd—Sn六个系统的25个试样在辉光放电灯中溅射率与组分的关系结果表明;阴极溅射在稳态时,二元合金(不形成金属间化合物)的溅射率与组元浓度的普遍关系是双曲线,只有在某些特殊情况下,两组元的溅射率相差不大时,可以近似看成线性关系。
关键词:
二元合金
,
glow discharge
,
binary alloy
,
sputtering rate
REN Jianshi ZHAO Huilin ZHANG Gongshu Institute of Metal Research
,
Academia Sinica.Shenyang
,
China ZHANG Gongshu
,
Senior Engineer
,
Institute of Metal Research
,
Academia Sinica
,
Shenyang 110015
,
China
金属学报(英文版)
Glow discharge cathodic sputtering of alloys containing second phase precipitates or injected oxide particles has been observed with energy dispersive X-ray spectrometer and scanning electron microprobe.It was shown that the formation of cones during the sputtering in these alloys is due to masking of the matrix by glow sputtering second phase precipitates or oxide particles.At steady state,the density of cottes were found to be a function of the densities pre- cipitates or oxide particles in bulk alloy.In addition to the changes of local sputtering rate,the electrostatic effect may play a role on the formation fo cones.
关键词:
glow discharge
,
null
,
null
REN Jianshi
,
ZHANG Gongshu Institute of Metal Research
,
Academia Sinica.Shenyang
,
China WANG Zhenshu
,
LIU Gen
,
LIU Shenglin Shanghai University of Technology
,
Shengyang
,
China
金属学报(英文版)
Investigation was made of the sputtering rate in glow discharge lamp with relaion to constituent of 25 different specimens of 6 binary systems.namely,Cr-Fe,Bi-Sb,Cu-Zn, Ag-Cu,Al-Zn and Cd-Sn.by measuring mass loss sfter each sputtering under constant Ar pressure and voltage applicd.The correlation.in general,between sputtering rate and concentration of constituent of these non-intermetallic binary alloys obeys the hyperbolic law under steady state,that may be approximately regarded as linear correlation only on certain special condition if the two components of the alloys with similar sputte ringrates.
关键词:
eathode sputtering
,
null
,
null
,
null
赵云
,
张玉林
,
陈飞
材料热处理学报
利用针状等电位空心阴极放电技术,在低于钛合金Ti6Al4V相变温度下,对其表面进行W-Mo共渗.利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度计、球-盘摩擦磨损试验仪等分析了改性层的表面及截面形貌、相组成、显微硬度;及在室温干摩擦条件下的耐磨性能;利用冲刷腐蚀试验机研究了W-Mo合金渗层在单相流和双相流冲刷腐蚀条件下,在NaCl腐蚀介质中的耐蚀性能.结果表明:Ti6Al4V基体经过W-Mo共渗处理后,在其表面形成了厚度约为25.0μm的合金改性层.合金层由AlMoTi2和TixW1-x相组成.改性层的显微硬度高达850 HV0.1,较基体(450 HV0.1)显著提高,改性层的平均摩擦系数也从基体的0.30降到0.14.W-Mo合金渗层良好的表面力学性能有效的保护了基体材料不受外力的冲刷,在单相流冲蚀下,W-Mo合金渗层的腐蚀速度只是基体Ti6Al4V的1/19;在双相流冲蚀条件下,只是基体Ti6Al4V的1/37.
关键词:
Ti6Al4V合金
,
辉光放电
,
共渗层
,
冲刷腐蚀
谢春香
,
张禹涛
,
马腾才
高分子材料科学与工程
采用常压辉光放电等离子体制备了超细荧光碳纳米粒子。分别采用聚乙二醇（PEG）2000和聚乙烯吡咯烷酮（PVP）20000作为表面活性剂和表面修饰剂,利用辉光放电等离子体射流产生的大量高能电子等活性粒子分解乙醇溶液制备碳纳米粒子。采用透射电子显微镜和荧光分光光度计对生成物的形貌和荧光特性进行了检测。结果表明,生成物为石墨相的荧光碳纳米颗粒。随着反应时间的延长,生成物的荧光强度增强;采用PEG-2000修饰后产物的荧光强度比采用PVP-20000更强;丝状放电模式下生成物的荧光强度高于辉光放电模式。制备的碳纳米颗粒的荧光量子产率为46.58%。
关键词:
荧光碳纳米粒子
,
辉光放电
赵云
,
曾云
,
刘伟光
,
陈飞
,
周海
材料热处理学报
采用等电位空心阴极辉光放电技术对纯钛进行W-Mo二元共渗,通过扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计对试样的结构形貌、渗层成分分布及相组成、硬度进行研究.利用摩擦磨损试验仪对试样的摩擦学性能进行研究,利用电化学腐蚀工作站,研究了W-Mo合金渗层在常温静态条件下,在3.5％ NaCl腐蚀介质中的耐蚀性能.结果表明,经W-Mo共渗处理后纯钛表面形成了一层均匀致密的W-Mo改性层,渗层最大厚度达到16.6 μm,最大硬度达到1196HV0.1,是基体的6.85倍.W-Mo共渗后改性层主要由W、Mo、MoTi、TixW1-x相组成.由于表面硬度的大幅提升,试样表面的耐磨性也显著提高,最低摩擦系数仅为0.23,较原始试样的0.516明显减小.测得的试样最低腐蚀速率为0.0016 mm/a,是原始试样的1/230,耐蚀性能也显著提高.
关键词:
纯钛
,
辉光放电
,
W-Mo共渗
,
耐磨性能
,
耐蚀性能
张青
,
陈传胜
,
宋建强
,
郑晓华
电镀与涂饰
采用直流辉光放电辅助PLD(脉冲激光沉积)法制备了CNx涂层,通过正交试验研究了气压、激光通量、放电功率密度和靶基距等工艺参数对CNx涂层的氮含量、摩擦因数和磨损率的影响,利用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)和球-盘式微型摩擦仪对涂层的表面形貌、化学成分以及摩擦学特性进行了表征.结果表明,辉光放电辅助PLD制备的CNx涂层比传统PLD涂层光滑,且工艺参数对涂层表面形貌的影响较小.激光通量对涂层的氮含量、摩擦因数和磨损率的影响较为显著,放电功率密度的影响最小.涂层的耐磨性随涂层氮含量的升高而降低.当气压为12 Pa、激光通量为6.7 J/cm2、放电功率密度为30 mW/cm2和靶基距为37 mm时,涂层中氮原子分数为32.2％,沉积速率为0.83 μm/h,摩擦因数为0.122,磨损率为1.13×10-13 m3/(N.m).
关键词:
氮化碳涂层
,
脉冲激光沉积
,
辉光放电
,
氮含量
,
摩擦因数
,
磨损率
贺志勇
,
赵晋香
,
高原
中国腐蚀与防护学报
采用双层辉光离子渗金属技术在20钢上进行镍铬共渗处理，对合金元素的溅射和吸收这两个渗金属过程，从放电及溅射等理论角度并结合试验结果进行了分析讨论。结果表明，放电条件对渗层形成效率有很大影响，合金元素的利用率在不同的放电参数下会有悬殊的变化。溅射量决定于溅射电压与气压，利用率则受工件偏压、气压、极间距的共同控制。在一定的溅射量下，利用率的高低决定了渗层质量及形成效率。提高合金元素的利用率是工艺参数选择的最重要目标。
关键词:
辉光放电
,
sputtering
,
surface alloying
