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脉冲激光沉积方法生长硅基ZnO薄膜的特性

何建廷 , 庄惠照 , 薛成山 , 田德恒 , 吴玉新 , 刘亦安 , 胡丽君 , 薛守斌

功能材料

用脉冲激光沉积法(PLD)在n型硅(111)平面上生长ZnO薄膜.X射线衍射(XRD)在2θ=34°处出现了唯一的衍射峰,半高宽为0.75°;傅里叶红外吸收(FTIR)在414.92cm-1附近出现了对应Zn-O键的红外光谱的特征吸收峰;光致发光(PL)测量发现了位于370和460nm处的室温光致发光峰;扫描电子显微镜(SEM)和选区电子衍射(SAED)显示了薄膜的表面形貌以及晶格结构.利用PLD法制备了具有c轴取向高度一致的六方纤锌矿结构ZnO薄膜.

关键词: PLD , ZnO , 薄膜 , 六方纤锌矿结构

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