孙淼
,
张艳
,
王胜刚
腐蚀学报（英文）
借助动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)测量, 研究块体纳米晶工业纯铁(BNII) 和粗晶工业纯铁(CPII)在室温0.4 mol/L HCl溶液中的电化学腐蚀行为; 用扫描电子显微镜(SEM)观察腐蚀后的表面形貌. 结果表明, 与CPII相比, BNII的自腐蚀电位Ecorr正向移动43 mV, 自腐蚀电流Icorr由68.37 μA•cm-2减小为29.55 μA•cm-2; 电荷转移电阻Rt由427.0 Ω•cm2增大到890.1 Ω•cm2. 两种材料发生的点蚀呈不同的形态: BNII的点蚀孔小而浅, 腐蚀深度比较均匀, 而CPII的腐蚀表面形成的点蚀孔深且孔径较大. 与CPII相比, BNII在HCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高.
关键词:
块体纳米晶工业纯铁(BNII)
,
severe rolling
,
hydrochloric acid solution
,
corrosion
孙淼
,
张艳
,
王胜刚
腐蚀学报（英文）
借助动电位极化和电化学阻抗谱（EIS）测量，研究块体纳米晶工业纯铁（BNII）和粗晶工业纯铁（CPII）在室温0．4mol／LHCl溶液中的电化学腐蚀行为；用扫描电子显微镜（SEM）观察腐蚀后的表面形貌．结果表明，与CPII相比，BNII的自腐蚀电位Ecorr正向移动43mV，自腐蚀电流Icorr由68．37pA·cm^-2减小为29．55pA·cm^-2；电荷转移电阻Rt由427．0Q·cm^2增大到890．1Q·cm^-2两种材料发生的点蚀呈不同的形态：BNII的点蚀Ykd,而浅，腐蚀深度比较均匀，而CPII的腐蚀表面形成的点蚀孔深且孔径较大．与CPII相比，BNII在HCl溶液中的耐腐蚀性能明显提高．
关键词:
块体纳米晶工业纯铁(BNII)
,
深度轧制
,
盐酸溶液
,
腐蚀
