吕树国
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刘常升
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张罡
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毕监智
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金光
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李玉海
钢铁研究学报
采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助电弧离子镀沉积设备,利用N离子束轰击高速钢W18Cr4V基材上电弧离子镀已沉积完毕的TiAlN膜层.研究了不同能量的N离子束轰击对TiAlN膜层表面形貌、显微硬度和相结构的影响.SEM分析表明:TiAlN膜层表面"大颗粒"消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低.X射线衍射分析表明:无N离子轰击时,TiAlN膜层是由TiAlN相和Ti_2 AlN相组成;随着轰击能量的增加,TiAlN膜层的相结构没有发生变化,但TiAlN(111)取向减弱,而(200)和(220)取向均增强;Ti_2AlN(211)取向减弱.力学性能测试表明:N离子束轰击,使膜层的显微硬度由原来的2 100HV0.01提高到2 300HV0.01.
关键词:
离子束
,
TiAlN膜层
,
电弧离子镀
,
显微硬度
