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~(111)In离子在Ag中反冲引起的辐射损伤及激光退火效应

倪新伯 , 孙重文 , 陈文彪 , 卢庆千

金属学报

本实验利用TDPAC方法,通过30MeVα粒子束(2μA)引起的~(109)Ag(α,2n)~(111)In核反应产生的~(111)In离子,研究了~(111)In离子在Ag中反冲引起的重离子辐射损伤. 实验结果表明在α粒子剂量率4.2×10~(12)cm~(-2)s~(-1)情况下,即使在室温环境中,仍引起明显的重离子辐射损伤.这些损伤破坏了Ag立方晶体结构的对称性而产生一个高达10~(18)V/cm~2的电场梯度作用于~(111)Cd探针核.并说明其是双空位或空位环俘获~(111)Cd的结果.实验还进行了激光退火效应的研究,指出其与真空热退火相比的优越性.

关键词: 辐射损伤 , laser annealing , ~(111)In , time differential perturbation angle correlation (TDPAC)

大能量高功率准分子激光的应用及关键技术

赵家敏 , 游利兵 , 余吟山 , 方晓东

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2013.06.009

实用型大能量高功率准分子激光器广泛地应用于材料的加工及表面处理,介绍了其在液晶平板显示行业、太阳能光伏行业、半导体行业及汽车制造业的应用.分析了大能量高功率准分子激光器的关键技术,如大面积均匀放电技术,预电离技术,高压快脉冲激励技术以及为了得到更大的脉冲能量及功率输出而采用的双腔同步技术.

关键词: 激光技术 , 准分子激光 , 大能量 , 高功率 , 磁脉冲压缩 , 激光退火

激光退火工艺对化学沉积Ni-Mo-P镀层组织及硬度的影响

姜魁经 , 刘宏 , 吕媛媛 , 王朋

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.10.004

目的 研究两种激光退火工艺(线光斑无搭接扫描、圆光斑搭接扫描)对非晶态结构的Ni-4.6Mo-12.4P镀层晶化组织特征及硬度的影响.方法 在Q235钢基体上化学沉积Ni-Mo-P镀层,然后用两种激光工艺对其进行热处理.通过XRD测试并结合Jade软件定量分析镀层晶化程度、结晶相质量分数及其晶粒尺寸,利用SEM/EDS确定镀层的成分及表面形貌,采用纳米压痕技术对镀层进行硬度测试,最后对两种激光工艺进行对比.结果 Ni-Mo-P镀层在线光斑扫描速度低于12mm/s、圆光斑扫描速度低于10 mm/s时,发生Ni3P晶化反应,同时伴有Ni-Mo固溶体形成.Ni3P相的晶粒尺寸大于Ni/Ni-Mo相尺寸,但扫描速度为6mm/s时,Ni/Ni-Mo相尺寸大于Ni3P相尺寸.扫描速度相同时,线光斑扫描镀层比圆光斑扫描镀层获得更高的晶化程度和Ni3P质量分数,而线光斑扫描的Ni3P相尺寸小于圆光斑扫描的尺寸.扫描速度为6~10 mrn/s时,除扫描速度10 mm/s外,线光斑扫描镀层的硬度较高.结论 能量密度高的线光斑无搭接扫描比能量密度低的圆光斑搭接扫描更有利于Ni3P相的析出,而圆光斑搭接扫描易于Ni3P相尺寸的长大.镀层的硬度主要受Ni3P相的尺寸及其质量分数的影响.

关键词: 激光退火 , 线光斑 , 圆光斑 , 化学沉积Ni-Mo-P镀层 , 显微组织 , 硬度

采用准分子激光退火的室温沉积ITiO薄膜的性能研究

沈奕 , 姚若河

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.21.021

采用室温磁控溅射的方法在玻璃衬底上沉积掺 Ti 氧化铟薄膜,并在真空中采用 XeCl 准分子激光进行退火,样品的光学、电学性能、相结构分别采用分光光度计、霍尔效应测试仪和 X 射线衍射仪进行测试。结果表明,功率为100~150mJ/cm2的准分子激光照射可以使薄膜由无定形态转变为结晶态,激活所掺杂的Ti原子,降低薄膜的电阻率;增大退火功率还可以进一步降低载流子浓度,提高薄膜的透过率。经150mJ/cm2准分子激光退火的掺Ti氧化铟薄膜,其电阻率为6.93×10-4Ω·cm,透过率达到了88.4%。

关键词: 掺Ti氧化铟 , 室温沉积 , 激光退火

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