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稀土元素对FeCo合金微观组织及磁性能的影响

刘树峰 , 赵明静 , 刘小鱼 , 鲁飞 , 孙良成 , 史守华

稀土

采用非自耗真空电弧炉冶炼Fe50Co50-xREx(RE =La、Ce、Gd、Dy)合金锭.通过SEM和VSM等测试分析手段对添加稀土元素对FeCo合金的微观组织和磁性能影响作了系统研究.结果表明,稀土元素的添加会在基体相周围形成富稀土相,当含量较高时还会出现过渡相.添加稀土使FeCo合金的磁导率增大.

关键词: FeCo合金 , 稀土元素 , 微结构 , 磁性能

Ce对NdFeB永磁体磁性能和微观结构的影响

张雪峰 , 史孟飞 , 李培忠 , 戴永峰 , 马强 , 李永峰

稀土

研究了稀土元素Ce的添加对NdFeB性能的影响.随着Ce含量增加,样品的磁性能剩磁、矫顽力、磁能积分别下降.对比结果:添加量10%时,磁体性能较优,剩磁1.2T,内禀矫顽力1002 kA/m,最大磁能积273.7kJ/m3.使用XRD检测磁体中CeO2衍射峰增强,SEM观察烧结样品富钕相富集区域增加,样品中孔隙数和孔洞直径明显增大造成磁性能恶化.Ce含量增加导致性能下降,但本实验室制造的(Nd,Ce)2Fe14B磁能积仍在30 MGOe~35 MGOe范围,因而探索稀土元素Ce替代Nd的工作仍然具有积极的经济效益和社会意义.

关键词: 添加元素 , 烧结钕铁硼磁体 , 磁性能 , 微观结构

钕铁硼器件表面电沉积铜层及性能

李悦 , 朱立群 , 李卫平 , 刘慧丛 , 南海洋

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2015.001426

针对钕铁硼器件现有Ni/Cu/Ni镀层防护体系存在的磁性能衰减问题,用碱性HEDP络合剂镀液在钕铁硼磁体表面直接电沉积铜层,并在其上电镀镍,构成Cu/Ni镀层防护体系代替通常的Ni/Cu/Ni镀层体系.通过电化学测试研究镀铜液中HEDP络合剂浓度对铜沉积过程的影响;应用SEM,XRD,TEM对铜层微观形貌进行了表征;分别用热震实验和热减磁实验对铜层结合力和钕铁硼器件的热减磁性能进行测试.结果表明: 镀铜溶液中HEDP对铜离子沉积过电位影响较大,铜晶粒在钕铁硼晶界处优先沉积,并以(111)晶面取向为主;钕铁硼磁体上镀铜层结构致密,与钕铁硼的结合力良好,满足SJ 1282-1977的要求;Cu/Ni镀层体系的钕铁硼热减磁衰减率相比于Ni/Cu/Ni镀层显著减小.

关键词: 钕铁硼 , 磁性能 , HEDP络合剂 , 铜层 , 结合力

冷轧压下率及初始高斯晶粒取向度对超薄取向硅钢织构演变与磁性能的影响

梁瑞洋 , 杨平 , 毛卫民

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2016.000350

以不同高斯取向度的取向硅钢成品板为初始原料,采用一次冷轧法制备0.06~0.12mm厚的取向硅钢薄带.利用EBSD取向成像技术研究冷轧压下率以及初始高斯晶粒取向度对超薄取向硅钢织构演变与磁性能的影响.结果表明:随着冷轧压下率增大和厚度减小,退火后再结晶织构增强,当压下率为70%时,再结晶织构中RD∥〈001〉织构最锋锐,磁性能最佳;初始样品高斯取向度越高,制备的薄带样品磁性能越好;因此,生产高性能的取向硅钢薄带应选用初始高斯晶粒取向度较高的成品板.

关键词: 超薄取向硅钢 , 晶粒取向度 , 冷轧压下率 , 再结晶织构 , 磁性能

电场调控Pt/Co∶ZnO/Nb∶SrTiO3异质结阻变与磁性研究

胡诚 , 张婷婷 , 来国红 , 邱达 , 张昌华 , 朱永丹

人工晶体学报

利用脉冲激光沉积法在0.7% Nb∶ SrTiO3衬底上制备了Co∶ ZnO薄膜,并构建了Pt/Co∶ ZnO/Nb∶ SrTiO3异质结器件.该器件表现出典型的双极性阻变效应,在正、负向电压作用下,器件电阻可以在低阻态和高阻态之间变换,电阻变换比值可达到104,阻态具有一定的保持性与耐久性,同时Co∶ ZnO薄膜的饱和磁化强度会产生与阻变相关联的可逆调控.结合ZnO薄膜阻变与磁性调控结果发现,氧空位在Co∶ ZnO/Nb∶ SrTiO3异质结的阻变及磁性调控中具有重要作用,并采用氧空位产生与湮灭结合载流子注入-束缚/解束缚模型解释阻变与磁性调控.

关键词: 脉冲激光沉积 , Pt/Co∶ ZnO/Nb∶ SrTiO3异质结 , 阻变 , 氧空位 , 磁性

碳纳米管包覆空心羟基铁粉的制备及其磁性能

赵廷凯 , 张红燕 , 朱若星 , 王军高 , 折胜飞 , 郭争光 , 赵星 , 李铁虎

稀有金属

采用点蚀法处理羟基铁粉(hydroxy-iron,HI),制备出具有空心结构的羟基铁粉(h-HI),以对氨基苯甲酸(PABA)作为活性嫁接剂连接空心羟基铁粉与碳纳米管,制备出碳纳米管包覆的空心羟基铁粉(MWCNTs@h-HI).使用XRD、SEM、TEM及Lakeshore 7307型振动磁强计对样品进行表征和分析.结果表明,通过点蚀处理可制得空心羟基铁粉,当点蚀时间为15 min时,空心羟基铁粉产率最大,粒径约为2μm的空心羟基铁粉的壁厚范围为200 nm,包覆层厚度约为150 nm.碳纳米管包覆空心羟基铁粉的饱和磁化强度(Ms)为140.88 (A·m2)·kg-1,剩磁(Mt)为1.4808(A·m2)·kg-1,矫顽力(Hc)为4.742× 10-3 T.

关键词: 碳纳米管 , 羟基铁粉 , 点蚀处理 , 磁性能

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