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溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响

郭继花 , 黄致新 , 崔增丽 , 杨磊 , 邵剑波 , 朱宏生 , 章平

功能材料

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明,基片与靶间距为72mm,溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力为477.6kA/m,克尔角为0.413°.

关键词: 射频磁控溅射 , GdTbFeCo , 磁光性能 , 溅射工艺

保护层对TbFeCo薄膜磁光性质的研究

翁嘉文 , 徐初东

材料导报

利用飞秒时间分辨磁光Kerr光谱技术结合振动样品磁强计(VSM),分别研究了以SiO2为基底无保护层的TbFeCo薄膜以及以SiN为保护层的TbFeCo薄膜的磁光性质.对于无保护层的TbFeCo样品,VSM测量结果发现磁滞回线形状倾斜,且包含面内磁矩;Kerr回线测量结果发现探测脉冲通过表面层所测得的回线形状倾斜而通过基底层所测得的回线形状方正,揭示样品表面发生氧化形成了表面氧化层,而底层由于SiO2基底层的保护作用保持样品原有的磁光性质.对于以SiN为保护层的TbFeCo样品,VSM和Kerr回线的测量结果发现回线形状保持方正,揭示SiN保护层可以防止样品发生氧化而使其保持原有的磁光性质.研究结果对于TbFeCo磁光薄膜的热稳定性保护具有重要意义.

关键词: 磁光性质 , 保护层 , TbFeCo

圆柱形金属纳米线的太赫兹磁光吸收特性研究

吴平 , 徐文 , 李龙龙 , 张超

稀有金属材料与工程

运用Kubo公式对圆柱形金属纳米线的磁光响应特性进行了理论研究.结果发现:与具有抛物线型电子限制势的低维半导体量子线不同,金属纳米线的磁光吸收谱以及相位延迟响应都敏感地依赖于光的偏振,这主要是由于不同的偏振光具有不同的磁光选择定则所致.另外,电子在不同子能带间磁光跃迁所产生的光吸收在太赫兹频率范围,可以通过改变纳米线半径以及调节磁场强度来有效调节金属纳米线在太赫兹频段的共振磁光吸收特性.这些理论结果揭示了金属纳米线的基本磁光响应特性.

关键词: 金属纳米线 , 磁光响应特性 , 太赫兹光吸收

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