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双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜粘结性能研究

朱家俊 , 周灵平 , 刘新胜 , 彭坤 , 李德意 , 李绍禄

人工晶体学报

采用单、双靶反应磁控溅射法分别在45钢、GCr15钢、硅(100)和钼衬底上制备了AlN薄膜.X射线衍射和电子显微分析表明,双靶反应磁控溅射沉积的AlN薄膜具有高致密度和低残余应力,同时采用划痕法和压痕法等对AlN薄膜的粘结强度进行测试, 结果表明:双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜的粘结强度明显比单...

关键词: AlN薄膜 , 反应磁控溅射 , 粘结强度 , 共沉积

反应溅射NiCrO_x薄膜过程及其光学性质的研究

曹韫真 , 胡行方

无机材料学报

研究了反应气体流量对磁控反应溅射ＮｉＣｒＯ_ｘ薄膜成分和光学常数的影响．在反应溅射过程中，ＮｉＣｒ靶随着Ｏ_２流量的增大出现毒化现象．在不同氧流量条件下可沉积出近于透明的介电薄膜和不透明的吸收薄膜．对薄膜光学常数的研究可应用到太阳能光谱选择性...

关键词: 磁控反应溅射 , NiCrO_x thin films , optical constants , solar selective surface

反应溅射 NiCrOx薄膜过程及其光学性质的研究

曹韫真 , 胡行方

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2000.02.018

研究了反应气体流量对磁控反应溅射NiCrOx薄膜成分和光学常数的影响. 在反应溅射过程中，NiCr靶随着O2流量的增大出现毒化现象. 在不同氧流量条件下可沉积出近于透明的介电薄膜和不透明的吸收薄膜. 对薄膜光学常数的研究可应用到太阳能光谱选择性吸收薄膜的制备.

关键词: 磁控反应溅射 , NiCrOx薄膜 , 光学常数 , 光谱选择性吸收表面

纯氮气反应溅射AlN薄膜及性质研究

杨世才 , 阿布都艾则孜·阿布来提 , 简基康 , 郑毓峰 , 孙言飞 , 吴荣

人工晶体学报

在不同氮气浓度、不同溅射气压和衬底温度为20～370 ℃的条件下,分别在多种衬底上采用反应磁控溅射法沉积AlN薄膜.X射线衍射图谱表明:温度大于180 ℃时可在多种衬底上沉积出具有c轴择优取向的纤锌矿AlN薄膜.衬底温度和溅射时间的增加有利于薄膜结晶性的改善. 1.5 Pa的纯氮气气氛和Si(100...

关键词: 氮化铝 , 磁控反应溅射 , 择优取向

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