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微波功率对掺氮纳米金刚石薄膜组成、结构及性能的影响

王兵 , 王延平 , 熊鹰 , 周亮 , 叶勤燕

功能材料

以CH4和CO2作生长金刚石薄膜的反应气体，以Ar作载气将三聚氰胺甲醇饱和溶液带入沉积室内作氮掺杂源，用微波等离子体化学气相沉积法在单晶硅衬底上制备出掺氮纳米金刚石薄膜。通过拉曼光谱、原子力显微镜、霍尔效应研究了掺氮纳米金刚石薄膜的组成、结构和导电性能，重点研究了微波输入功率对薄膜特性的影响。结果表明，制备的掺氮纳米金刚石薄膜具有良好的电子导电性，且随着激发等离子体微波功率的增大，其晶粒尺寸、晶界宽度、表面粗糙度和电导率增大，在最佳微波功率条件下制备出电子电导率高、材料质量好的纳米金刚石薄膜。

关键词: 微波等离子体 , 纳米金刚石薄膜 , 掺杂 , 电导盔

微波等离子体化学气相淀积法生长取向性纳米氮化铝薄膜

孟广耀 , 谢松 , 彭定坤

材料研究学报

采用微波等离子体增强的化学气相淀积法,在Si(111)衬底上生长了(002)择优取向良好的AIN纳米薄膜研究淀积参数对膜的形貌、物相结构和生长速率的影响,发现在一定条件下,该起积过程属于典型的输运控制过程采用表面吸附生长模型讨论了膜的生长机制

关键词: 微波等离子体 , chemical vapor deposition , AIN film , growth mechanism

THE EFFECT OF DIAMOND FILM NUCLEATION AND GROWTH IN DIFFERENT SUBSTRATE PRETREATMENT METHODS

武汉理工大学学报-材料科学版(英文版)

关键词:

MPCVD制备金刚石膜的形核与生长过程

江彩义 , 高冀芸 , 郭胜惠 , 杨黎 , 彭金辉 , 张利波 , 胡途 , 王仕兴

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.011.014

简要介绍了金刚石膜的物理化学特性及应用领域.对比分析了主要化学气相沉积方法的优缺点,并指出MPCVD所面临的技术瓶颈.总结了反应腔体内压强、基片温度、基体材料及增强形核技术对金刚石膜形核过程的影响.较低腔体内压力、基片温度,高碳源浓度及等离子体预处理能有效提高形核密度.阐述了各过程参数对金刚石膜生长的影响和微米、纳米、超纳米金刚石膜的技术特点及应用.指出各类金刚石膜制备所面临的技术难题,并综述了解决该技术瓶颈的最新研究工作.

关键词: 金刚石膜 , 微波等离子体 , 化学气相沉积 , 形核 , 生长

MPEE-CVD法可控多层石墨烯制备?

陈鑫耀 , 田博 , 蔡伟伟

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.12.041

石墨烯是有着诸多优异的物理和化学性能的蜂窝状二维晶体材料，在多个领域展现出令人振奋的应用前景。然而，可控制备高质量、大面积石墨烯仍然是一个难题。通过使用市售微波炉改造成的微波等离子体刻蚀辅助化学气相沉积系统(MPEE-CVD)，研究等离子体刻蚀对石墨烯生长机制的影响，优化生长条件，成功实现了可控多层石墨烯的制备，为进一步研究多层石墨烯的应用提供了有效和可靠的可控制备方法。

关键词: 石墨烯 , 微波等离子体 , MPEE-CVD , 可控多层

化学气相沉积法制备超纳米金刚石薄膜

王玉乾 , 王兵 , 孟祥钦 , 甘孔银

材料导报

采用微波等离子体化学气相沉积法,利用CH4、SiO2和Ar的混合气体在单晶硅片基底上制备出高质量的超纳米金刚石薄膜.表征结果显示,制备的薄膜致密而均匀,晶粒平均尺寸约7.47nm,表面粗糙度约15.72nm,并且其金刚石相的物相纯度相对较高,是质量优异的超纳米金刚石薄膜材料.

关键词: 微波等离子体 , 化学气相沉积 , 超纳米金刚石薄膜