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PREPARATION OF Fe/Ni MULTILAYER FILMS AND THEIR MAGNETIC PROPERTIES

L.L. Liu , X.F. Bi , S.K. Gong

金属学报(英文版)

FeNi multilayer films were prepared by EB-PVD technique. A modified TG-DSCapparatus was used to measure their Curie temperatures, which were around 760°C,lower than that of pure Fe thin films. The easy magnetization axis was in-plane. Hightemperature annealing in vacuum decreased the coercivity sharply. The saturationmagnetization also changed with heat treatment. After annealing at the temperatureequal to the substrate temperature during deposition, the saturation magnetizationdecreased.

关键词: multilayer film , null , null , null , null

Cu-Au多层膜力学性能的纳米压痕测试

颜凌云 , 郏义征 , 包宗贤 , 陶勇 , 武鹏飞

贵金属

采用纳米恪痕仪研究柚Cu-Au多层膜的硬度、弹性模柎及其在恪头下的变形行为。结果表明,随单层膜厚度(h)的减小,Cu-Au多层膜的弹性模柎略有减小。Cu-Au多层膜的硬度随单层膜厚度的减小而增加,当h≥50 nm时,硬度随1 h线性增加;当h<50 nm时,硬度与1 h偏果柚原来的线性关系,且硬度随1 h的增大而增大的趋势开始弱化。在单层膜厚度为25 nm的Cu-Au多层膜的恪痕附近,出现柚“挤出”和剪切带。

关键词: 金属材柞 , 多层膜 , 硬度 , 弹性模柎 , 变形行为

调制周期对磁控溅射WB2/CrN多层薄膜力学性能的影响

范迪 , 雷浩 , 郭朝乾 , 宫骏 , 孙超

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.024

目的 研究调制周期对磁控溅射WB2/CrN多层膜结构及性能的影响.方法 通过双靶直流磁控溅射法,在硅片、石英玻璃片及不锈钢上,制备AlB2型WB2薄膜与CrN薄膜及其多层复合薄膜,采用X射线衍射及扫描电子显微镜对其相结构及形貌进行观察和分析,使用维氏显微硬度仪及划痕仪对多层膜的硬度及膜基结合力进行研究.结果 磁控溅射WB2/CrN多层薄膜呈现出柱状生长趋势,且层状结构明显,仅当调制周期大于317 nm时,多层膜中才出现WB2晶体的衍射峰.结论 多层膜中的WB2薄膜在本实验条件下的临界结晶厚度大于150 nm.随着调制周期的减小,CrN层生长取向发生由(200)晶面向多晶面的转变,WB2层生长取向由(101)晶面向(001)晶面转变.多层膜硬度随调制周期的减小大体呈下降趋势,在调制周期为317 nm时达到最大值.结合力变化趋势与硬度相反,CrN层及多层界面有助于复合薄膜膜基结合强度的提高.

关键词: 多层膜 , 调制周期 , 磁控溅射 , 硬度 , 结合力 , WB2

a-Si∶H/a-SiC∶H 多层薄膜的光、电特性研究?

蒋冰 , 丁宁 , 陈乙豪 , 马蕾

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.10.028

采用射频等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,以SiH4、CH4和 H2为反应气体,在单晶硅和石英衬底上制备a-Si∶H/a-SiC∶H 多层薄膜。利用透射电子显微镜(TEM)对样品的微结构进行了表征,同时对其电子输运性质和光吸收特性进行了实验研究。结果表明,本实验条件下制备的多层薄膜样品为非晶态多层薄膜结构,并且样品具有良好的周期性结构和陡峭的界面特性。室温条件下,样品在垂直方向上呈现出多势垒顺序共振隧穿特性。由于量子限制效应,当a-Si∶H 势阱层厚度<8 nm,随着势阱层厚度减小,样品的光学带隙增大,光吸收系数减小。

关键词: PECVD , 多层薄膜 , 微结构特征 , 电子输运性质 , 光吸收特性

Ta缓冲层厚度对FeMn/NiFe体系交换偏置的影响?

杨素分 , 陈冷

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.07.012

用X射线衍射仪、原子力显微镜和磁强计研究了Ta缓冲层厚度变化时,Ta/FeMn/NiFe/Ta多层膜微观结构和磁性能的变化,分析了其微观结构和磁性能之间的关系。实验结果表明,随 Ta 缓冲层厚度增加,FeMn层织构、晶粒尺寸、位错密度、应变和界面粗糙度都发生明显变化,并且这些变化影响了多层膜的偏置场(H ex )和矫顽力(H c )的大小。结合实验现象和交换偏置(EB)的物理本质,讨论了微观结构对交换偏置的影响机理。

关键词: 交换偏置 , 多层膜 , 织构 , 界面粗糙度 , 晶粒尺寸

具有外部谐振腔的胆甾相液晶激光器的研究

张伶莉 , 孙秀冬 , 刘永军 , 陈丹 , 荀显超

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132805.0679

制备具有外部谐振腔的胆甾相液晶激光器件.采用镀有多层膜的ITO玻璃作为基板,取向后制备1D-PC/CLC/1D-PC结构的胆甾相液晶激光器件.该激光器件在532 nm的Nd:YAG倍频脉冲激光器泵浦下能够出射双模激光.出射激光峰位分别位于600 nm和650 nm,对应于胆甾相液晶的短波边缘和长波边缘,并且激光的发射阈值明显低于普通的盒式胆甾相液晶激光器件.此激光器件可以通过电压控制在单模发射和多模发射之间切换,电控的阈值电压仅为6V.

关键词: 激光器 , 胆甾向液晶 , 多层膜

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