李爱丽
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闫金良
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石亮
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刘建军
人工晶体学报
采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Cu靶的方法在不同基底温度下制备了ZnO/Cu/ZnO多层膜.用X射线衍射仪、原子力显微镜、紫外可见分光光度计和四探针测试仪对样品的性能进行了表征.结果表明,随着基底温度的升高,ZnO层c轴择优取向明显,结晶程度变好,Cu层的结晶性先变好后逐渐变差;多层膜表面均方根粗糙度随基底温度的升高而增加;光学透过率随基底温度的升高逐渐增大,基底温度为300 ℃时最大透过率接近90%;面电阻随基底温度的升高逐渐增加,最小面电阻为12.4 Ω/□.
关键词:
透明导电膜
,
多层膜
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光学性质
,
电学性质
赵银女
材料科学与工程学报
doi:10.14136/j.cnki.issn.1673-2812.2015.04.018
用射频磁控溅射Ga2O3陶瓷靶材和直流磁控溅射ITO靶材在石英玻璃衬底制备Ga2 O3 /ITO周期多层膜.样品在300~800℃真空退火1小时,研究退火温度对薄膜光学和电学性能的影响.400℃退火的Ga2O3/ITO周期多层膜面电阻和电阻率低至68.76Ω/□和3.47×10-3Ω·cm,载流子浓度和霍尔迁移率高达1.30×1020 cm-3和14.02cm2 V-1 s-1.退火温度超过500℃后,Ga2O3膜层和ITO膜层之间开始相互扩散,薄膜结晶质量和导电性变差.所有退火薄膜在紫外-可见光范围的平均光学透过率高于83%,光学带边吸收随退火温度增加发生蓝移,光学带隙从4.59eV增加到4.78eV.
关键词:
磁控溅射
,
多层膜
,
透明导电膜
,
退火
,
光学性质
,
电学性质
范德松
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李强
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宣益民
工程热物理学报
La_(0.7)Ca_(0.2)Sr_(0.1)MnO_3热致变色材料是一种发射率随温度变化的热控功能材料,不足的是这种材料的太阳吸收率过大。针对此问题,本文从多层薄膜理论和最优化理论出发,获得了基于多层薄膜的低太阳吸收率热致变色材料。根据计算得到的膜系结构参数,采用电子束蒸发法在热致变色材料表面沉积了多层薄膜,并对设计计算与实验测试结果进行研究和分析。研究表明:多层薄膜结构的设计能将热致变色材料的太阳吸收率从0.78降低至0.27,提高了热致变色材料的实用性。
关键词:
热致变色材料
,
太阳吸收率
,
多层薄膜
,
遗传算法
杨田林
,
张之圣
,
宋淑梅
,
辛艳青
,
姜丽莉
,
李延辉
,
韩圣浩
功能材料
采用射频磁控溅射和离子束溅射联合设备在玻璃衬底上制备出了具有良好附着性、低电阻率和高透过率的GZO/Ag/GZO(ZnO掺杂Ga_2O_3简称GZO)多层薄膜.X射线衍射谱表明GZO/Ag/GZO多层薄膜是多晶膜,GZO层具有ZnO的六角纤锌矿结构,最佳取向为(002)方向;Ag层是立方结构,具有(111)取向.在GZO层厚度一定的情况下,研究了Ag层厚度的变化对多层膜结构以及光电特性的影响.研究发现,当Ag层厚度为10nm时,3层膜的电阻率为9×10~(-5)Ω·cm,在可见光范围内平均透过率达到89.7%,薄膜对应的品质因子数值为3.4×10~(-2)Ω~(-1).
关键词:
GZO/Ag/GZO
,
多层膜
,
溅射方法
,
透明导电膜
林深
,
施源德
,
欧阳锐
,
郭春美
,
陈丽芳
复合材料学报
通过层层自组装方法在氧化铟锡(ITO)电极上原位制备了Dawson型磷钨铁杂多酸/聚酰胺-胺复合膜。用XPS、UV-Vis、CV、AFM分析表征复合膜的形成过程和电化学性能。结果表明:杂多酸阴离子和聚酰胺-胺层层自组装形成多层复合膜且增长均匀;复合膜在酸性溶液中出现了三对氧化还原峰;用该复合膜修饰的电极稳定性好,对亚硝酸盐和溴酸盐均具有良好的电催化活性。
关键词:
磷钨铁杂多酸
,
聚酰胺-胺
,
多层复合膜
,
电催化
李琪
,
代明江
,
韦春贝
,
侯惠君
,
林松盛
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.01.019
目的 改善钛合金表面抗微动磨损性能.方法 利用非平衡磁控溅射技术在钛合金表面沉积MoS2-Ti/Cu-Ni-In多层固体润滑膜,并与MoS2-Ti与Cu-Ni-In单层固体润滑膜进行对比.利用扫描电镜、显微硬度计、摩擦磨损试验机、表面轮廓仪对固体润滑薄膜的形貌、硬度、抗微动磨损性能、磨痕形貌进行分析测试.结果 所制备的Cu-Ni-In单层膜与MoS2-Ti单层膜结构致密,与基体结合良好,MoS2-Ti/Cu-Ni-In多层膜交替结构清晰,结构致密.MoS2-Ti/Cu-Ni-In多层膜的硬度大于MoS2-Ti及Cu-Ni-In单层膜,多层膜的平均微动系数为0.06,MoS2-Ti单层膜的平均微动系数为0.102,Cu-Ni-In单层膜的平均微动系数大于1.0.在12000个微动循环周期后,测得MoS2-Ti/Cu-Ni-In多层膜的最终磨损总量为0.045 mm3,Cu-Ni-In单层膜的最终磨损总量为37.79 mm3,MoS2-Ti单层膜的最终磨损总量为0.296 mm3,即多层膜的抗微动磨损性能较Cu-Ni-In单层膜改善了2个数量级,较MoS2-Ti单层膜改善了5倍以上.结论 MoS2-Ti/Cu-Ni-In多层膜中的多个界面对单层晶粒生长起到了阻挡作用,从而致使交替结构中的单层晶粒得到细化,Cu-Ni-In膜的引入延缓了MoS2-Ti膜的剥落及其转移,增加了不锈钢球与多层膜间第三体的润滑及减磨效果,多层膜表现出了优异的抗微动磨损性能.
关键词:
磁控溅射
,
微动磨损
,
固体润滑膜
,
微动磨痕
,
多层膜
,
微动系数
张波
,
匡加成
,
王良
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2017.02.001
根据燃料电池电极片的技术要求,在不锈钢电极片表面实现电镀金和真空镀氮化碳多层膜.基于基层镀镍的工艺条件,研究了镀金溶液pH对镀层色泽的影响,电流密度对镀金沉积速度的影响,盐雾试验与镀层厚度关系,温度对镀金层电阻率的影响,获得了镀金的最优配方和工艺.开展了不合格镀金层的退除及金的回收研究,基于真空镀氮化碳薄膜工艺条件,对多层膜的表面形貌进行了表征,多层膜显著提高耐蚀性能的同时具有较好的结合力.多层膜制备与工艺研究将进一步扩大其在各领域中的应用.
关键词:
电极片
,
镀金
,
溅射
,
氮化碳
,
多层膜
杨芳儿
,
史玉龙
,
章荣
,
沈淑康
,
鲁叶
,
郑晓华
中国有色金属学报
采用磁控溅射法交替溅射WS2和石墨靶制备周期为4~23 nm的WSx/a-C纳米多层膜.采用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)和X射线光电子谱(xPs)等分析薄膜的组织结构和元素的化学价态;采用纳米压痕仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机测试薄膜的硬度、结合力和在潮湿大气下(相对湿度70%)的摩擦磨损特性.结果表明:多层膜结构致密,表面平整.a-C的加入改变WS2的结晶状态,多层膜为微晶或非晶结构;随着调制周期的增大,多层膜的硫与钨摩尔比逐渐降低并趋于稳定(约为1.32),其硬度稍有上升,而结合力明显降低,摩擦因数由0.32降至0.26,而磨损率逐渐上升但显著低于纯WSx膜的.调制周期为4nm的多层膜的耐磨性能最佳,磨损率约为1.03×10-13 m3.N-1.m-1.
关键词:
二硫化钨
,
多层膜
,
调制周期
,
组织结构
,
摩擦
,
磨损