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王延平 , 王兵 , 熊鹰 , 周亮
材料研究学报
以Ar、CH4和CO2为反应气源,以三聚氰胺的甲醇饱和溶液为掺杂源,用微波等离子体化学气相沉积法在单晶硅基体上制备了掺氮的金刚石薄膜;用原子力显微镜,拉曼光谱以及霍尔效应测试仪等手段表征了膜的组成结构和半导体特性.结果表明:掺氮的金刚石薄膜晶粒平均尺寸约为20 nm,表面粗糙度约为8.935 nm,...
关键词: 无机非金属材料 , 微波等离子体 , 化学气相沉积 , n型掺杂 , 纳米金刚石薄膜
刘颖 , 戴丹 , 江南
无机材料学报 doi:10.15541/jim20160422
以化学气相沉积(CVD)制备的单层石墨烯为原料,小分子三嗪为掺杂剂,采用吸附掺杂的方式,在低温下对石墨烯实现n型掺杂.利用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱分析(XPS)、原子力显微镜(AFM)、紫外分光光度计(UV)和霍尔效应测试仪(Hall)对样品的形貌、结构及电学性能进行表征.结果表明:...
关键词: CVD石墨烯 , 三嗪 , n型掺杂 , 载流子浓度 , 表面电阻
